Gebraucht CANON / ANELVA ILC 1013MK2 #9119670 zu verkaufen

CANON/ANELVA ILC 1013MK2 ist eine mittelgroße DC-Sputteranlage, die sich ideal für Dünnschichtabscheidungsanwendungen eignet. Es ist ein integriertes, hochautomatisiertes Sputter-Abscheidewerkzeug mit modularem Aufbau für einfache Wartung. Das System ist mit einer leistungsstarken DC-Magnetron-Sputterpistole ausgestattet und kann dünne Filme auf flachen, gebogenen oder gemusterten Oberflächen sputtern. Das Gerät ist für eine vereinfachte Wartung und Bedienung konzipiert und ermöglicht konsistente, wiederholbare Ergebnisse. CANON ILC 1013MK2 bietet ein umfassendes Feature-Set, darunter eine separate Steuereinheit, eine automatische Prozesssteuerung, eine Acht-Schacht-Kammer und zwei Arbeitskammern. Die Hauptkammer bietet drei Sputterkathoden zum gleichzeitigen Sputtern verschiedener Materialien, so dass Anwender optimale Sputterparameter für ihr spezifisches Substrat und ihre Folien erzielen können. Das kreisförmige Manipulationsfeld der Sputterpistole ist einstellbar, um eine maximale Homogenität der Abscheidung zu gewährleisten. Die Fläche des magnetischen Materials, das die Pistole passiert, ist 360 °, so dass der Benutzer die volle Kontrolle über den Bereich zu haben. Die Steuereinheit bietet eine einfach zu bedienende grafische Benutzeroberfläche (GUI) zur Steuerung des Sputterabscheidungsprozesses. Es ist mit einem Multi-Channel Raster Positionierer mit kundenspezifischer Bewegungsprofilsteuerung und hochpräziser Positionsauslesung ausgestattet. Dadurch wird eine optimale Leistung in Bezug auf Homogenität, Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit der Ergebnisse gewährleistet. Die Abscheidungsparameter wie Sputterleistung, Substrattemperatur, Kammerdruck und Prozessdauer können durch die Steuereinheit genau programmiert und überwacht werden. ANELVA ILC 1013MK2 ist auch mit mehreren Funktionen zur Prozessintegritätskontrolle ausgestattet, wie Überdruck- und Sauerstoffüberwachung, Vorgasreinigung und einem Partikelzähler zur Überwachung der Folienmasse. Seine beiden Arbeitskammern bieten zusätzliche Flexibilität für die Substrat- und Filmabscheidung, was die Fähigkeit zum einstufigen oder gestapelten Verfahren bietet. Diese Sputterabscheidungsmaschine ist eine optimale Wahl für Dünnschichtforschung, -entwicklung und -qualitätskontrolle.