Gebraucht CANON / ANELVA ILC 1051 #9121831 zu verkaufen

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CANON / ANELVA ILC 1051
Verkauft
ID: 9121831
Wafergröße: 6"
Sputtering systems, 6".
CANON/ANELVA ILC 1051 ist eine hochpräzise Sputteranlage für Halbleiter, Photovoltaik und andere industrielle Anwendungen. Es verfügt über eine fortschrittliche Ionenstrahlquelle, einen programmierbaren Prozesscontroller und ein modulares Design für eine einfache Wartung. Das System ist in der Lage, Standard-Ionenstrahl-Sputtern, Ionenplattieren und CVD-Prozesse (Chemical Vapor Deposition) durchzuführen. CANON ILC 1051 bietet eine Reihe von Substratmaterialien und Ionenquellen, mit ausgezeichneter Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Die Einheit verwendet einen Hochleistungs-Ionenstrahl, um ein Halbleiterbauelement wie eine Solarzelle oder LED zu bombardieren, wodurch ein dünner, leitfähiger Film aus gewünschtem Material entsteht. Der Ionenstrahl wird durch einen Laser erzeugt, der dann fokussiert und auf das Substrat gerichtet wird. Das Substrat ist aus einer Vielzahl von Materialien aufgebaut, darunter Silizium, Galliumnitrid, Aluminium und Wolframcarbid. Die Maschine ist mit einer programmierbaren Prozesssteuerung ausgestattet, die eine präzise Steuerung der Sputterparameter ermöglicht. Dazu gehören Spannung, Gasfluss, Strom und Leistung. Es bietet auch eine genaue Kontrolle über die Abscheiderate und Temperatur des Substrats. Die Leistung und Temperatur des Ionenstrahls kann auch eingestellt werden, um den Sputterprozess zu optimieren. ANELVA ILC-1051 ist ein zuverlässiges und effizientes Sputterwerkzeug, das maximale Leistung bei minimalen Ausfallzeiten bietet. Es wurde entwickelt, um hervorragende Ergebnisse für eine Vielzahl von Sputter-Arbeitslasten zu liefern. Die Anlage eignet sich auch gut für Anwendungen, die eine hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit erfordern. Es hat einen modularen Aufbau, der eine einfache Wartung und Wartung ermöglicht. CANON/ANELVA ILC-1051 ist ein ideales Sputtermodell für eine Vielzahl von industriellen Anwendungen.
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