Gebraucht Custom Sputter coater #9058402 zu verkaufen

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ID: 9058402
System Small sample Vacuum: 5x10-7torr with 1hr of sample load Chamber: Bottom plate: ISO 250 baseplate, (1) Onyx-2 magnetron, capable of (3) magnetron sources Custom top flange and lid for substrate loading (2) ISO 160 flanges (6) KF40 flanges available as side ports Pumping: HVA gate valve separates chamber from turbo pump Watts Pneumatics Regulator: Model #: R35-01C Varian MacroTorr Turbo V550 turbo pump Varian TurboP ump Controller: Model #: 9699544S016 Gas flow: MKS Mass-Flo Controller Model #:1179A22CR1BV Range: 200 sccm Gas: N2 Sputter source: Angstrom Sciences Onyx-2 Magnetron Sputtering Cathode Model #: Onyx-2 IC STD Maximum Sputtering Power: DC: 1kW RF: 600 Watts Cathode Voltage: 100 - 1500 Volts Discharge Current: 0.1 - 2 Amps Operating Pressure: 0.5 - 50 mTorr Cooling Requirements: Flow Rate at Maximum Power: 0.05 LPS Maximum Input Termperature: 20 deg C Maximum Input Pressure, Open Drain: 4 bar Target: Form: Circular/Planar Diameter: 50.8mm Thickness: 0.3-9.6mm Cooling: Indirect Magnetic Enhancement: Permanent (NdFeB) Encapsulated Construction: Cathode Body: OFHC Copper Anode: 304 Stainless Steel Insulator: CTFE Vacuum monitoring: Granville-Phillips Micro-Ion ATM Granville-Phillips 275 Mini-Convectron Power supply: AE MDX, 2.5kW with arc handling circuitry, M/N: 2224-019-A Interface: C-more EA7-T6CL-R touch panel, 6".
Ein Custom Sputter Coater ist eine spezialisierte Sputterausrüstung, die zum Abscheiden einer dünnen Materialschicht auf einem Substrat verwendet wird. Es ist ein Abscheidungsprozess, bei dem Atome oder Moleküle aus einem Metalltarget beschleunigt werden, um als kollimierter Strahl auf ein Zielsubstrat zu stoßen und einen dünnen Film zu bilden. Das Zerstäubungssystem besteht im allgemeinen aus einer Vakuumkammer, einer Magnetanordnung zur Erzeugung eines Feldes um das Substrat, einer Anordnung von Zerstäubungsquellen, einer Vakuumpumpe, einer Stromversorgung und einer Steuerung. Die Sputtereinheit ist eine Art physikalischer Dampfabscheidungstechnik (PVD-Technik), bei der Material vom Ziel durch Beschuss von Inertgasionen aufgelöst wird, wodurch ein Fluss von neutralen Atomen entsteht, die in einem kollimierten Strahl zum Substrat gelangen. Sputtergase einschließlich Argon und andere können verwendet werden, um hohe Abscheidungsraten und eine gleichmäßige Beschichtung von dünnen Filmen zu erzeugen. Kundenspezifische Sputterbeschichtungen werden aus Materialien wie Gold, Chrom, Titan, Kupfer, Aluminium und mehr hergestellt, wobei jedes Material einzigartige Eigenschaften für verschiedene Anwendungen aufweist. Die Vakuumkammer zur Sputterbeschichtung ist üblicherweise eine zylindrische Kammer, die zur Erzeugung eines gleichmäßigen Magnetfeldes um das Zielsubstrat ausgebildet ist, was zu einer hohen Zerstäubungsgeschwindigkeit führt. Es ist mit Flanschen zur Befestigung des Substrathalters, einem Substratfutter und einem Targethalter ausgestattet. Der Prozess der Sputterbeschichtung kann je nach Material variieren, aber ein typisches Verfahren besteht darin, die Kammer mit Argon auf das gewünschte Vakuumniveau zu spülen, das Substrat und das Zielmaterial zu beladen, das Substrat und das Zielmaterial auf eine bestimmte Temperatur zu erhitzen und anschließend die Maschine mit Strom zu versorgen. Die Stromversorgung für Sputter Coater ist typischerweise in Form eines DC-DC-Wandlers, der mehrere Ausgangsspannungen bereitstellen kann, um die Sputterquelle zu versorgen. Das Targetmaterial ist über eine Anodenschaltung verbunden, wobei die Stromversorgung mit dem Target und die Erdung über einen Metallstab verbunden ist. Die Durchgangsflansche zur Stromversorgung des Targets befinden sich auf der Oberseite der Emissionskammer. Die Steuerung versorgt die verschiedenen Komponenten des Sputterwerkzeugs mit der Leistung, die entsprechend den gewünschten Parametern eingestellt wird. Der Controller sammelt auch Daten aus verschiedenen Teilen der Sputteranlage, wie Temperatur, Leistung, Spannung und mehr für die Analyse. Kundenspezifische Sputterbeschichtungen können eine viel dünnere Materialschicht als andere Dünnschichtabscheidungstechniken wie Verdampfung abscheiden und sind somit ideal für Anwendungen, bei denen präzise Schichten erforderlich sind. Mit Hilfe einer Vielzahl von Materialien und anspruchsvollen Controllern erzeugen diese Custom Sputter Coater hochgleichmäßige Schichten mit ausgezeichneter Morphologie und Reproduktion.
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