Gebraucht EVATEC Radiance #9130079 zu verkaufen

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Hersteller
EVATEC
Modell
Radiance
ID: 9130079
Weinlese: 2010
Sputtering deposition system Load lock and handling system Transfer module Single target Temperature: 10-50 degree C Relative humidity: 30-80% Shared fore line pump: EDWARDS GX100L LL TMC Pump: PFEIFFER TMH261 TC TMC Pump: PFEIFFER TMH521 (2) Batch process modules (BPM) Process chamber Turn table Wafer chucks Shared Fore line pump: EDWARDS GX100L Turbo pump: PFEIFFER Highpace 2301 CTI Inline water pump Chamber conditioning unit Baratron process gas measurement gauge Base pressure: <9E-8 mbar (2) Process sources SSC 300 Planar magnetron SSC300 (1) DC Power supply 5kW (3) Mass flow controllers Rack cabinet Control system Chamber shield for each process module 80-100 A, 50 Hz, 1200 VAC 2010 vintage.
EVATEC Radiance ist ein Sputtergerät von EVATEC, Inc. Es ist so konzipiert, dass es für die Herstellung von dünnen Filmen mit hohem Durchsatz sputtert. Strahlungssystem verwendet ein herkömmliches Verfahren zum Sputtern unter Verwendung von Magnetronsputtern mit Dioden- und Triodensputterkonfigurationen. Es bietet eine breite Palette von rotierenden und stationären Targets für die planare und zylindrische Abscheidung. EVATEC Radiance bietet die Möglichkeit, eine Reihe von Materialien abzuscheiden, darunter Metalle, Legierungen, Oxide, Nitride und amorphe Materialien. Der Temperaturbereich der Produktion liegt von Raumtemperatur bis 400 ° C. Strahlungsmaschine ist in der Lage, alle Materialformen, wie Folien, Mehrschichten und dampfdispergierte Schichten abzuscheiden. Es kann auch verwendet werden, um feine Merkmale und Nanostrukturen mit begrenzten Linien- und Platzbreiten zu erstellen. Das Werkzeug eignet sich für Abscheidungen mit hohem Seitenverhältnis und ist in der Lage, Ziele für die Abscheidung auf vielfältige Weise zu positionieren. EVATEC Radiance Asset bietet zudem eine fortschrittliche Sensortechnologie, die eine präzise Steuerung des Gasflusses in der Abscheidekammer ermöglicht. Dadurch wird eine gleichmäßige Verteilung des Gasgemisches innerhalb der Kammer gewährleistet. Die fortschrittliche Sensortechnologie bietet auch Temperaturerfassungsfähigkeiten, die eine präzise Temperaturregelung ermöglichen, um gleichmäßigere Folien zu erzeugen. Die fortschrittliche Sensortechnologie ermöglicht auch eine schnellere Abscheidung und höhere Durchsatzraten. Das Strahlungsmodell bietet auch Fernbedienungsfunktionen, mit denen Benutzer die Geräte fernsteuern und überwachen können. Dazu gehören Überwachung der Abscheidungsrate, Abscheidezeit und Bewegungssteuerung von Zielen. EVATEC Radiance System ist auch mit Mensch-Maschine-Schnittstellen (HMIs) ausgestattet, die verwendet werden, um Parameter wie Betriebsparameter, Zielauswahl und Rezepte einzustellen. Insgesamt bietet die Radiance Sputtereinheit eine Vielzahl von Funktionen und Funktionen, die sie ideal für die Dünnschichtproduktion machen. Es ist für Produktions- und Forschungsanwendungen konzipiert und bietet Anwendern eine präzise Kontrolle und großartige Leistung.
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