Gebraucht HITACHI IML4-1 #9128628 zu verkaufen

HITACHI IML4-1 ist ein hochmodernes Sputtergerät. Dieses Vakuumbeschichtungssystem verfügt über eine integrierte 3-stufige turbomolekulare Pumpeinheit, die in die Außenkammer integriert ist und eine konstante Leistung über einen weiten Bereich von Betriebsdrücken bietet. Diese Maschine ermöglicht eine präzise Dünnschichtabscheidung bei sehr niedrigen Drücken und niedrigen Temperaturen. IML4-1 umfasst ein auf Verdampfung basierendes Abscheidewerkzeug. Diese Technologie verwendet eine leistungsstarke Magnetronquelle, um eine Probe lokal zu erwärmen und ein Plasma zu erzeugen, um Atome zu verdampfen, die verwendet werden können, um dünne Filme zu erzeugen. Dieses Asset kann für eine optimierte Filmabdeckung gedreht werden. HITACHI IML4-1 hat die Fähigkeit, die Verdampfungsgeschwindigkeit und die Abscheidungsgeschwindigkeit von Atomen über die gesamte Oberfläche einer Probe genau zu kontrollieren, wodurch eine Gleichmäßigkeit gewährleistet ist. Darüber hinaus bietet IML4-1 die Verwendung eines 300mm kreisförmigen Sputter-Targets. Dieses Sputter-Target kann verwendet werden, um dünne Filme verschiedener Metalle, wie Aluminium, Chrom und Titan, unter anderem mit sehr hoher Abscheidungsrate und Gleichmäßigkeit abzuscheiden. HITACHI IML4-1 beinhaltet auch eine hochenergetische Fernplasmaquelle, mit der in kurzer Zeit weite Bereiche einer Probe gespritzt werden können. Zusätzlich ist das Modell mit einer automagnetischen Quelle ausgestattet, die eine präzise Kontrolle der Abscheideprofil- und Folienparameter ermöglicht und eine Langzeitstabilität ermöglicht. Schließlich ist IML4-1 auch mit einer Ladeschloßausrüstung für einfaches Be- und Entladen von Proben ausgestattet. Zur Erhöhung der Anwendersicherheit wird HITACHI IML4-1 von einem Plasma-Monitor sowie einem digitalen Lecksucher und Thermoelement-Thermometer gesteuert und überwacht. Abschließend ist IML4-1 ein Ultra-Hochleistungs-Sputtersystem, das eine präzise Dünnschichtabscheidung mit hoher Geschwindigkeit und Gleichmäßigkeit ermöglicht. Diese hochmoderne Einheit ist einfach zu bedienen und zu warten und eignet sich ideal für eine Vielzahl von Anwendungen, von Forschung und Entwicklung bis hin zu kleinen Produktionsläufen.