Gebraucht LEYBOLD / BALZERS ZV740 / AZ RFD #9205696 zu verkaufen

LEYBOLD/BALZERS ZV740/AZ RFD ist eine leistungsstarke, fortschrittliche PVD-Ausrüstung (Physical Vapor Deposition) für Sputteranwendungen. Es vereint eine breite Palette von Prozessparametern, Beschichtungsabscheidungsraten und Materialverträglichkeit. LEYBOLD ZV740/AZ RFD eignet sich für viele verschiedene Arten von Thin Film Deposition (TFD) Prozessen. Es ist für den Einsatz in einer Vielzahl von Branchen konzipiert, darunter Industrieelektronik, Optoelektronik und Mikroelektronik sowie optoelektronische, Luft- und Raumfahrt, Automobil und medizinische Anwendungen. BALZERS ZV740/AZ RFD verwendet eine 6-achsige robotergesteuerte Sputterkammer, die von einem Substrat-Clam Shell-System unterstützt wird. Das Gerät verfügt über eine programmierbare Anwendungsfrequenzregelung und eine dynamische Substratbewegung. Es enthält auch einen Touch-Panel-Controller, eine Kammer-Viewer-Kamera und einen integrierten E-Beam-Überwachung und Sicherheitssensor. Es bietet verbesserte Prozessüberwachungsfunktionen mit Prozessvariablenprotokollierung und Online-Datenabruf. Die Sputterkammer weist eine fortschrittliche Prozesskammerdesign mit out-of-the-box Prozesskammeroptimierung auf. Es umfasst eine fortschrittliche zweiteilige Kathodenmaschine, ein transformierbares Zielklemmwerkzeug, einen festen Zielhalter, einen Gaskanalzugang und eine Prozessansichtskamera. Die RF/DC und MF/DC Netzteile bieten eine stabile Plasmaerzeugung und einen einheitlichen Ionenbeschuss für eine verbesserte Filmhaftung und Gleichmäßigkeit auf Substraten aller Art. ZV740/AZ RFD verfügt über eine Reihe von Beschichtungen und Substratmaterialien, von Titannitrid (TiN) und Carbon NanoTubes (CNx) bis Chrom (Cr) und Titan (Ti). Es verfügt über eine erweiterte Steuerungslogik und automatisierte Prozesssteuerung, die eine Echtzeit-Leistungsüberwachung ermöglicht. LEYBOLD/BALZERS ZV740/AZ RFD verfügt außerdem über eine automatisierte Lastverriegelungs- und Prozesskammer-Druckregelung, Temperaturregelung und Substrat-Substrat-Anpassung, die eine gleichmäßige Beschichtung und Filmdicke über alle Substrate gewährleistet. Darüber hinaus bietet LEYBOLD ZV740/AZ RFD verschiedene Ausstattungsoptionen für Mobilität und Nutzung. Es verfügt über eine Lecksuche zur Warnung vor jeglichem Vakuum-Asset-Abbau und einen integrierten reaktiven Ätzprozess zur Entfernung nativer Oxide. Die RFD beinhaltet auch ein integriertes Gasmanagementmodell für eine effiziente und optimierte Zielverbrennung. Letztlich bietet BALZERS ZV740/AZ RFD eine zuverlässige, fortschrittliche physikalische Aufdampfausrüstung für Sputteranwendungen. Das innovative Kammerdesign, die fortschrittlichen Prozessfähigkeiten und die umfassenden Beschichtungsoptionen machen es zur perfekten Wahl für jede Branche.