Gebraucht MRC 603 I #9107596 zu verkaufen

MRC 603 I ist eine Sputterausrüstung für den Einsatz in den Bereichen Mikroelektronik, Flachbildschirm und verwandte Dünnschichttechnik. Das System integriert mehrere Sputterquellen und einen Hochleistungs-Plasmaprozessor, um hochwertige Dünnschichtbeschichtungen mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit herzustellen. Die Einheit verfügt über eine einzelne Target-Sputterkammer, zwei Magnetron-Sputterköpfe und eine Bogenquelle in der Kammer. Die Sputterkammer kann bis zu 8 Zoll (203mm) Durchmesser Wafer aufnehmen und mehrere Funktionen in der Maschine integriert ermöglichen ein einfaches Be- und Entladen von Substraten. Das Tool 603 I bietet eine breite Palette von Sputter-Zielmaterialien, von Edelmetallen wie Gold und Platin bis hin zu leitfähigen und halbleitenden Materialien wie Aluminium, Kobalt und Chrom. Das Doppelkopfmagnetron verfügt über eine unabhängige Steuerung des Leistungspegels, der Vorspannung und der Temperatur und ermöglicht eine präzise und genaue Dünnschichtabscheidung. Die Lichtbogenquelle, die Argon als Arbeitsgas verwendet, bietet eine außergewöhnliche Kontrolle über die Plasmaumgebung und ermöglicht eine präzise Kontrolle über Filmoberflächen und -eigenschaften. MRC 603 I bietet eine breite Palette an Prozessflexibilität. Die HF-Leistung, die Pulsfrequenz und das Tastverhältnis des Sputterns können für beide Zielquellen unabhängig gesteuert werden, wodurch der Abscheidungsprozess für jedes Material leicht optimiert werden kann. Die In-Chamber-Lichtbogenquelle ermöglicht die Erzeugung hochreaktiver Arten für Oberflächenmodifikationen und Nitrierung. Es bietet auch eine Möglichkeit, die Haftung der Folie auf dem Substrat zu verbessern, ohne dass zusätzliche chemische Prozesse erforderlich sind. 603 I verfügt über eine ausgeklügelte Prozesssteuerungssoftware zur Überwachung und Aufzeichnung von Sputterparametern in Echtzeit. Dies ermöglicht eine einfache Identifizierung von Prozessfragen und eine präzise Prozesssteuerung. Darüber hinaus umfasst das Asset erweiterte Datenanalysefunktionen, die eine Feinabstimmung der Prozessparameter ermöglichen, um eine optimale Dünnschichtleistung zu erzielen. Die Software ermöglicht auch eine einfache Datenübertragung und Speicherfunktionen, so dass es einfach ist, Filmdaten zu teilen und Sputterprozesse zu entwickeln und anzupassen. Insgesamt ist MRC 603 I ein leistungsstarkes Sputtermodell, das auf die Anforderungen der Mikroelektronik, des Flachbildschirms und anderer Dünnschichttechnikanwendungen ausgelegt und konfiguriert ist. Mit seinem breiten Spektrum an Zielmaterialien, leistungsstarker Lichtbogenquelle und erweiterten Software-Überwachungsfunktionen bietet 603 I eine hervorragende Dünnschichtabscheidung mit hoher Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit.