Gebraucht MRC 603 II #9102669 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9102669
Sputtering System
Parts system
Process in DC mode: Al, Ni and Ti
AE DC MDX power supply
AE RFX 3000 power supply
Vacuum controller: non-functional
Not included:
Hydraulic pump
Cryo on chamber
208 V, 100 A, 60 Hz, 3 Ph.
MRC 603 II ist eine kompakte, automatisierte Hochleistungs-Sputterausrüstung, die dünne Filme aus metallischem oder dielektrischem Material auf verschiedenen Substraten aufbringt. Es nutzt Hochfrequenz (RF) -Netzteile, um ein Hochleistungs-HF-Feld zu erzeugen, das ein Edelgasgemisch ionisiert, das das abzuscheidende Zielmaterial enthält. Das zerstäubte Material kollidiert dann mit dem Substrat und bildet eine Dünnfilmbeschichtung. Dieses System ist ideal für Anwendungen, die eine hohe Materialabscheidungsrate erfordern, einschließlich industrieller Produktion und Forschungs- und Entwicklungsanwendungen. MRC 603-II ist mit einer hochzuverlässigen Prozesssteuereinheit zur präzisen Steuerung sowohl der Abscheiderate als auch der Dünnschichtdicke ausgestattet. Die Maschine verfügt über zwei unabhängige HF-Netzteile liefern maximal 200W pro Plasma und sieben unabhängig gesteuerte Targets und Substrathalter für die mehrschichtige Dünnschichtabscheidung. Das robuste Edelstahldesign ist in einem kompakten und tragbaren Gehäuse untergebracht und somit ideal für den Labor- und Produktionseinsatz. Das Werkzeug ist für den Betrieb in einer einzigen Kammer, die entweder ein einzelnes Ziel oder mehrere Ziele in Rotation für mehrschichtige Abscheidung. Es nimmt Substrate von bis zu 8 „Größe und bis zu 4“ Dicke in einer beheizten oder nicht beheizten Konfiguration je nach Zielmaterial auf. 603 II verfügt auch über ein Vakuum-Management-Modell, um eine Hochvakuum-Umgebung von bis zu 5x10-7 Torr zu gewährleisten. Das Gerät ist flexibel und bietet mehrere Sputterprozesse, darunter DC, gepulste DC, Dual-Frequenz oder RF. Es bietet auch benutzerfreundliche Software für die einfache Einrichtung und Überwachung der Prozessparameter, sowie Post-Deposition-Analyse. 603-II ist ein leistungsfähiges und zuverlässiges Sputtersystem, das für eine Vielzahl von Dünnschichtabscheidungsanwendungen geeignet ist. Mit seiner kompakten Bauweise, flexiblen Betriebsarten, benutzerfreundlicher Software und effizienter Prozesssteuerung bietet es eine kostengünstige Möglichkeit, hochwertige Dünnschichten für verschiedene Anwendungen zu erhalten.
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