Gebraucht MRC 603 III #9012739 zu verkaufen

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Hersteller
MRC
Modell
603 III
ID: 9012739
Sputtering system RF: 1.5 kW DC: 10 kW PSI Air: 80-100 PSI Water: 60-90 (4) GPM (3) Target chromes Aluminum SiO² 15" x 5" Cryo pump compressor Booster pump Maximum processing size: 315 x 315 mm Vacuum system Cryo pumped CTI Cryo Torr 8 LEYBOLD D60A Roughing pump Load lock Target size: 4 3/4" x 14 7/8" (3) DC Cathodes Substrate heaters DC Power supply Keyboard CRT Monitor Targets shape: Square Compressor and RF generator RFPP RF20S Power supply Rated power output: 1500 Watts Matching network Controller: Analog closed-loop control Monitored by micro computer Substrate pallet size: 13" x 13" Pallet carrier: Chain drive Speed adjustable: From 39.3"/min to 120"/min Quartz substrate heater adjustable to 600°C Inset DC cathodes Facility requirements: Water: 4.0 gpm, 70 psig, 60°F Air: 70-100 psig, filtered, 1 cfm Sputtering gas: 3-5 psig Power: 208 V, 100.0 A, 60 Hz, 3-Phase.
MRC 603 III ist eine Sputterausrüstung, die zum Abscheiden dünner Filme auf Substraten entwickelt wurde. Das System besteht aus einer Hochvakuumkammer, einer externen Steuerung und einer eingebetteten Zielquelle mit zwei Sputterquellen. Die beiden Sputterquellen sind koaxiale Magnetrone, ein planares Magnetron und ein Kuppelmagnetron. Das Substrat ist in der Mitte der Kammer angebracht, und die beiden Sputterquellen sind um die Targetoberfläche herum positioniert. Das planare Magnetron weist eine planare Oberfläche zum Materialsputtern auf, während das Kuppelmagnetron eine kreisförmige Targetoberfläche aufweist und zum Richtsputtern verwendet werden kann. MRC 603-III Einheit verwendet ein Vakuumverfahren zur Abscheidung von dünnen Schichten auf Substraten. In die Kammer wird ein Sputtergas wie Argon eingeleitet, wo der Druck bei einem niedrigen Vakuum von weniger als 10-4 Torr gehalten wird. Die Argonatome werden beschleunigt und mit dem Zielmaterial kollidiert, wodurch Teilchen des Zielmaterials auf die Oberfläche des Substrats gesputtert werden. Das Verfahren wird als Sputterabscheidung bezeichnet und ist in der Lage, glatte, gleichmäßige Beschichtungen von sehr dünnen Schichten auf einer Vielzahl von Substraten zu erzeugen. 603 III umfasst auch bordseitige Strom- und Betriebssteuerungen. Der eingebettete Controller verfügt über eine Stromversorgung, eine einstellbare Frequenz-Stromversorgung und eine Reihe von Steuer- und Überwachungsfunktionen. Die Maschine ist für den Betrieb unter Basisdruck ausgelegt und bietet eine Temperaturregelung für das Ziel und das Substrat. Es unterstützt auch variable Prozessparameter, die eine Optimierung der Sputtererträge und Verarbeitungszeiten ermöglichen. Das Tool ist einfach zu bedienen und bietet erweiterte Prozesssteuerungsfunktionen wie rezeptbasierte Prozessautomatisierung, Echtzeit-Datenprotokollierung und Berichtsfunktionen. Die eingebettete Software ermöglicht die vollständige Integration mit werkseitigen Automatisierungssystemen, vereinfacht den Betrieb und eliminiert kostspielige Ausfallzeiten. 603-III ist ein vielseitiges und zuverlässiges Sputtergut, das dünne Filme von gleichmäßiger Qualität auf verschiedenen Substraten herstellen kann. Die fortschrittlichen Prozesssteuerungsfunktionen, kombiniert mit der zuverlässigen und wiederholbaren Leistung des Sputtermodells, machen MRC 603 III zu einer idealen Wahl für mehrere Dünnschichtabscheidungsanwendungen.
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