Gebraucht MRC 603 #166010 zu verkaufen

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Hersteller
MRC
Modell
603
ID: 166010
Sputtering system Control ranges: Sputtering pressure: 3 min, 25 max millitorr Scan speed: 2 min, 400 max cm/min DC Sput: 300 min, 9999 max watts RF Sput: 0.02 min, 2.5 max kV, 0.1 min, 1.5 max kW RF Etch: 0.2 min, 1.5 max kV, 0.1 min, 1.5 max kW Heat at etch station: 10 min, 18 max Amps Vacuum loadlock: Ultimate: 50 milliTorr Pumpdown time: 50 milliTorr within 2 min.
MRC 603 ist eine leistungsstarke, Multi-Source-Sputterausrüstung, die für die physikalische Dampfabscheidung von Dünnschichtmaterialien weit verbreitet ist. Es ermöglicht das gleichzeitige Sputtern von bis zu drei Targets aus verschiedenen Materialien. Die Ziele für das Sputtern sind in einer speziell konstruierten Kammer eingeschränkt und die Quellen für zerstäubtes Material werden von einem Hochfrequenz- oder Gleichstrom-Elektronenkanonen gespeist. Eine leistungsstarke und computergesteuerte Drehplattform ermöglicht eine schnelle Drehung aller drei Targets sowie eine genaue Abgabe der vorgegebenen Dosis zu zerstäubenden Materials. Das System besteht aus einer speziellen Abschirmkammer, einer leistungsstarken Sputterquelle, einem Drehtisch, einer Kühleinheit und der Hauptstromversorgung. Die Quellkammer ist so konzipiert, dass Ausgasungen, Staub, Partikel und Kondensationen verhindert werden. Es ist auch mit einem Diffusor ausgebildet, um zu minimieren, dass zerstäubtes Material im Raum zwischen Kammer und Substrat eingeschlossen wird. Die Sputterquelle kann sowohl für DC- als auch für HF-Frequenzen konfiguriert und entsprechend den Versuchsanforderungen an unterschiedliche Anodenkonfigurationen sowie zusätzliche spezielle Komponenten angepasst werden. Eine hochmotorisierte Drehplattform sorgt dafür, dass sich alle Komponenten innerhalb der Kammer drehen und sich in der optimalen Position für die Versuche befinden. 603 enthält auch eine Kühlmaschine, die hilft, Temperaturerhöhungen während des Betriebs zu verwalten. Es besteht aus zwei unabhängigen Kühlkreisläufen, einem für die Sputterquelle und einem für den Rest des Werkzeugs. Die Kühlanlage umfasst drehzahlverstellbare Lüfter sowie mehrere Durchflussmesser und Temperatursensoren. Das Hauptnetzteil für MRC 603 ist eine hochmoderne industrielle Einheit mit einer breiten Palette von Strom- und Spannungseinstellungen. Diese Stromversorgung kann Lastströme bis zu 10kW unterstützen und gewährleistet eine reibungslose und genaue Stromversorgung der Quelle und anderer Komponenten. Zur Steuerung und Datenprotokollierung kann 603 über eine USB- oder Ethernet-Verbindung an einen Computer angeschlossen werden. Es wird mit einem speziellen Steuerungssoftware-Paket geliefert, das Benutzern eine breite Palette von Parametereinstellungen und grafischer Anzeige bietet. Insgesamt bietet das MRC 603 Sputtermodell Forschern eine All-in-One-Sputterlösung, die robust, zuverlässig und bequem zu bedienen ist. Es ermöglicht es Forschern, leicht mit verschiedenen Arten von Dünnschichtmaterialien zu experimentieren und ermöglicht eine genaue Kontrolle des Sputterprozesses.
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