Gebraucht MRC 603 #9219234 zu verkaufen

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MRC 603
Verkauft
Hersteller
MRC
Modell
603
ID: 9219234
Wafergröße: 3"-6"
Metal sputtering system, 3"-6" Front-end.
MRC 603 ist eine hochmoderne, kleine Sputteranlage für Forschungs- und Entwicklungsanwendungen. Es kann für die Abscheidung von dünnen Folien mit außergewöhnlicher Gleichmäßigkeit und überlegener Prozesskontrolle verwendet werden. Das System besteht aus einer Ultra-Hochvakuum-Lastschloßkammer, einem im Vakuum nicht magnetisch drehbaren Sputtertarget, einer Personal-Computer-Steuerung (in einer 3x5 'Bedienerkonsole) und einer Inertgasversorgung. Die Sputterkammer mit Hochspannungsversorgung und Regler dient zur Filmabscheidung. Die Kammer beherbergt eine Vielzahl von Sputterquellen, einschließlich Magnetron- und Hochfrequenzquellen. Das Sputtertarget ist innerhalb der Kammer eingebaut und drehbar, um die Schichtdickenänderung zu minimieren, was eine gleichmäßige Abscheidung auf beiden Seiten einer Substratprobe gewährleistet. Die Einheit verwendet eine einpassende Elektronenstrahlverdampfung und direktes Sputtern aus einer periodisch wechselnden Quelle. Dies ermöglicht schnellere Abscheidezeiten bei höchster Dünnschichtqualität. Die Substratprobe wird durch eine dreiachsige Vakuumstufe gehalten und kann vor dem Sputtern in x-y-z-Ebenen eingestellt werden. Nach dem Abscheiden der Folie kann die Probe in eine Kühlkammer überführt werden, um sie schnell abzukühlen. Die Maschine ist mit fortschrittlichen Prozesssteuerungs- und Überwachungsfunktionen ausgestattet, die Prozesswiederholbarkeit und einstellbare Parameter zur Erhöhung der Produktionserträge bieten. Es verwendet ein Rückkopplungswerkzeug, das die Sputterrate von Zielmaterial, Temperatur, Druck und Gasfluss überwacht, um Prozessparameter aufrechtzuerhalten. 603 ermöglicht es Benutzern, einheitliche, kontrollierbare, hochwertige dünne Filme in einem kleinen Sputtergut zu hinterlegen. Es ist ein effizientes und zuverlässiges Werkzeug, das für die Abscheidung einer breiten Palette von Materialien für verschiedene Arten von Projekten verwendet werden kann. Es bietet eine überlegene Prozesssteuerung und Wiederholbarkeit, die es sowohl für hochspezialisierte Forschungs- als auch Entwicklungsanwendungen geeignet macht.
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