Gebraucht MRC 603 #9272191 zu verkaufen

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MRC 603
Verkauft
Hersteller
MRC
Modell
603
ID: 9272191
Wafergröße: 4"
Sputtering systems, 4".
MRC 603 ist eine bekannte Sputteranlage, die sich zum Abscheiden dünner Filme für verschiedene Anwendungen in der Elektronik-, Optoelektronik- und Display-Industrie eignet. Es wird häufig als integraler Bestandteil der Dünnschichtabscheidung angesehen, ein Abscheideverfahren, bei dem dünne Materialschichten auf ein Targetsubstrat eingebracht werden, um die Eigenschaften des Targets zu verbessern. 603 ist ein fortschrittliches Sputtersystem, das sich durch die Verwendung mehrerer Magnetrons zur Filmabscheidung auszeichnet. Das Gerät wurde entwickelt, um homogene und wiederholbare globale Verbunddünnschichten zu fördern. Sie besteht aus einer Glockenglaskammer, die eine oder zwei magnetisch schwebende rotierende Sputterquellenbaugruppen aufnimmt. Ein ultrahohes Vakuum garantiert Sauberkeit und hohe Ausbeute. Die fortschrittliche Technologie von MRC 603 ermöglicht es, wiederholbare Abscheideraten bis zu 15 nm/min im Doppelzielmodus oder bis zu 10 nm/min im Einzelzielmodus zu erreichen. 603 kann Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 350 mm aufnehmen. Es verfügt auch über einen hochmodernen Steuercomputer, der eine schnelle Sputterzeitauswahl und eine wiederholbare Ratenkontrolle ermöglicht. Der Steuerungscomputer ermöglicht es Benutzern auch, alle Prozessparameter in Echtzeit anzupassen, um eine optimale Maschinenleistung für jede Ablagerungsanforderung zu erreichen. Das Werkzeug enthält auch erweiterte Sicherheitsfunktionen wie eine Drucksicherheitsverriegelung, um die Sicherheit des Substrats und der Anlage unter Prozessbedingungen zu gewährleisten. Es hat auch die Fähigkeit, Hochleistungszustände zu erkennen und Lichtbogen zu verhindern. Weitere Merkmale sind leistungsstarke Gassteuerungssysteme, um inerte und reaktive oder in-situ Behandlungen zu ermöglichen. Das Modell bietet auch außergewöhnliche Kammerreinheit - typischerweise unter 1E-9T, erreicht durch die Kombination eines mobilen Kammerdipols und einer Kühlfangausrüstung. Dies ist insbesondere bei optischen Beschichtungen von Bedeutung. Darüber hinaus bietet das System mit seinen fortgeschrittenen rotierenden HPR-Magnetschwebequellen eine hohe Ionisationseffizienz und Abscheidungsgleichmäßigkeit. Alles in allem ist MRC 603 eine fortschrittliche Sputtereinheit, die für die Abscheidung mehrerer Dünnschichtmaterialien in der Elektronik-, Optoelektronik- und Display-Industrie geeignet ist. Seine fortschrittlichen Eigenschaften wie wiederholbare Raten, einstellbare Prozessparameter, Kammerreinheit und Sicherheitssysteme sorgen dafür, dass Ablagerungen homogen und wiederholbar sind und dass der Prozess zuverlässig und sicher ist.
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