Gebraucht MRC 662 #9248278 zu verkaufen

MRC 662 ist ein Sputtersystem, das für die Hochfrequenz-Ionenstrahlabscheidung (HRID) von Dünnfilmbeschichtungen entwickelt wurde. Sie erzeugt mittels einer Feldemissionsquelle (FE) positiv geladene Ionen, die durch eine Reaktionskammer laufen und eine Zieloberfläche in Form eines dünnen Films beschichten. 662 ist in der Lage, Materialien mit Raten bis zu 3-4 Angström pro Sekunde abzuscheiden und kann sowohl für In-situ- als auch für Ex-situ-Abscheidungsprozesse verwendet werden. MRC 662 verfügt über eine konfigurierbare Abscheidekammer mit einer Vielzahl von Parametern, einschließlich anpassbarer Druck- und Temperaturregelungen. Es kann eingestellt werden, um eine Vielzahl von Prozessen bereitzustellen, wie physikalische Dampfabscheidung (PVD), Magnetronsputtern oder reaktives Sputtern von Targets. Das reaktive Sputterverfahren wird häufig bei der Herstellung von magnetischen Speichermedien eingesetzt und erzeugt eine Beschichtung mit guter Korrosionsbeständigkeit und hoher Oxidationsbeständigkeit. 662 bietet auch mehrere Möglichkeiten zur Datenerhebung und -analyse. Es kann mit einem Probenhalter ausgestattet werden, der für die In-situ- und Ex-situ-Analyse verwendet werden kann, wodurch die Charakterisierung der Substrat/Ziel-gesputterten Dünnfilmbeschichtungen ermöglicht wird. Sie kann auch zur Messung der elektrischen und magnetischen Eigenschaften des Substrats und der abgeschiedenen Folie verwendet werden. MRC 662 ist ein fortschrittliches Sputtersystem mit der Fähigkeit, dünne Filme aus verschiedenen Materialien und Dicken kontrolliert und rekursiv abzuscheiden. Es verwendet eine FE-Pistole, die eine höhere Ionenemissionsstabilität aufweist als andere Sputtersysteme. 662 wird von der Mitsubishi Electric Corporation hergestellt und wird in der Elektronikindustrie für die Abscheidung von dünnen Schichten auf Substraten weit verbreitet verwendet.