Gebraucht MRC 902 #9254520 zu verkaufen

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Hersteller
MRC
Modell
902
ID: 9254520
Sputtering system (2) Targets clamp-on DC magnetron Pallet, 12" for wafer load / Unload RF Plasma etch Water cooled CTI-CRYOGENICS 10 Cryo pump.
MRC 902 ist eine Art Sputtersystem, das üblicherweise in physikalischen PVD-Prozessen verwendet wird. Es ist ein hochreines, ein- oder zweiseitiges, kaltes Wand-, Diodensputtersystem mit zwei 6 Zoll oder 8 Zoll Magnetrons. Es verwendet einen hochenergetischen Elektronenstrahl als Ionenquelle, so dass es höhere Abscheidungsraten und bessere Konformität als andere Sputtersysteme zu erreichen. 902 ist in der Lage, höhere Abscheidungsraten von bis zu 40 Angström pro Minute für weiträumige Abdeckung und Konformität zu erreichen, indem es seine patentierte „Cascade“ -Vorspannungsmethode verwendet. Es beinhaltet auch eine sorgfältige Optimierung von Druck, Leistung und geometrischen Konfigurationen der Magnetrons, um die Gleichmäßigkeitsleistung zu verbessern. Die Netzteile sind auch entworfen, um eine erweiterte Schutzschaltung zu verwenden, um vor Hochspannungsbogen und andere anormale Leistung zu schützen. MRC 902 ist mit einem integrierten Flachrohr-Netzteil ausgestattet, das die Kopplung der beiden 6 Zoll oder 8 Zoll Magnetrons unter Beibehaltung der doppelten Fähigkeit des ein- und zweiseitigen Betriebs ermöglicht. Diese erweiterte Funktion ermöglicht es 902, höhere Durchsätze zu erzielen, wenn kleine und große Substrate betrieben werden. Zusätzlich kann das planare Rohrnetzteil ferngesteuert werden, wenn mehrere MRC 902s in einem Mehrkammer-System montiert sind. MRC 902 ist auch mit einem Automatisierungsmechanismus ausgestattet, der einfach programmiert werden kann, um eine unterbrechungsfreie Leistung zu bieten, wodurch Benutzer die Rücksetz- und Prozesszeiten drastisch reduzieren können. Dies wird durch seine einfach zu bedienende grafische Softwareschnittstelle, die für Prozessparameteranpassungen und Datenabrufe verwendet werden kann, weiter verbessert. 902 ist für den Einsatz in einer Vielzahl von Anwendungen wie Sputtern dünner Filme, Halbleiterbauelementverarbeitung, optische Beschichtungen, Datenspeicherung und Anzeigemonitore konzipiert. Seine hohe Zuverlässigkeit und Robustheit macht es für den Einsatz in verschiedenen Branchen wie Luft- und Raumfahrt, Automobil und Medizinprodukte Fertigung geeignet. Seine Eigenschaften machen es auch eine große Wahl für Forschung und Entwicklung Anwendungen, wo genaue Prozesssteuerung und Flexibilität erforderlich sind.
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