Gebraucht PERKIN ELMER 4400 #9026902 zu verkaufen

PERKIN ELMER 4400 ist eine leistungsstarke Sputteranlage, die in industriellen Labors und Produktionsstätten weit verbreitet ist. Es ist für die Abscheidung von Dünnschichtschichten auf großen Substraten wie Halbleiterscheiben ausgelegt. Das System nutzt mehrere Vakuumsystemkomponenten wie eine Sputterkammer und eine Elektronenstrahlkanone, um eine gleichmäßige Filmschichtdicke innerhalb weniger Nanometer zu bilden. Die Kammer der Einheit besteht aus Glockengläsern aus Edelstahl mit Glomex Schwimmeroptik. Diese Schwimmeroptik bietet eine effiziente Erfassung von Sub-Mikron-Partikeln und eine magnetische Abschirmung, um die Homogenität der Vakuumbedingungen zu gewährleisten und Verunreinigungen zu reduzieren. Die Sputterkammer ist mit Quellen für hochreines Argon oder anderes Gas gefüllt, um eine Niederdruckatmosphäre für die Zielabscheidung zu schaffen. Im Zentrum des Sputterprozesses steht die Elektronenstrahlkanone, die den Strom energetischer Elektronen erzeugt, um das Sputterziel zu bombardieren und das Filmmaterial aus dem Ziel zu extrahieren. Die Elektronenkanone arbeitet mit einem elektronischen Strahlregler und einer Vorfokusspule zur Aufrechterhaltung eines fokussierten Strahls. Die Pistole ist verstellbar, um verschiedene Substratgrößen aufzunehmen. Die Source Targets bestehen üblicherweise aus reinen Metallen oder Legierungen wie Titan, Chrom, Kobalt, Nickel und anderen. Die Abscheiderate beträgt üblicherweise 1-2 nm/s und kann in Bezug auf Größe und Form des Targets und Geschwindigkeit des Abscheideprozesses eingestellt werden. Zur Optimierung der Filmabscheiderate kann auch die Solldrehzahl eingestellt werden. Darüber hinaus verfügt die Maschine über eine Gesamttemperaturregelung, die dazu beiträgt, die Substrattemperatur auf einem gewünschten Niveau zu halten. Das Tool umfasst auch eine In-situ-Diagnose mit abstimmbaren Lasern und einem Energieanalysator. Dies hilft, den Verlauf des Folienabscheidungsprozesses zu überwachen und sicherzustellen, dass die gewünschten Folienschichten homogen auf dem Substrat abgeschieden werden. Das Modell bietet auch Funktionen wie Schrittabdeckung und Richtungssteuerung, um die Gleichmäßigkeit und Integrität der Folienschichten zu gewährleisten. Zusammenfassend ist 4400 eine leistungsstarke und vielseitige Sputterausrüstung, die für die Abscheidung von Dünnschichtschichten für eine Vielzahl von Anwendungen entwickelt wurde. Sein Design gewährleistet eine gleichmäßige Verteilung der abgeschiedenen Folienschicht, was das System zu einer idealen Wahl für eine Vielzahl komplexer Abscheideprozesse macht.