Gebraucht PERKIN ELMER 4450 #9142022 zu verkaufen

PERKIN ELMER 4450 Sputter Equipment ist ein fortschrittliches, eigenständiges PVD-Gerät (Physical Vapor Deposition), das entwickelt wurde, um hervorragende und wiederholbare Dünnschichtabscheidungsfähigkeiten bereitzustellen. Bei diesem Verfahren wird ein festes Zielmaterial mit Ionen beschossen, wodurch Dünnschichtablagerungen abgesputtert werden, mit denen komplexe Strukturen hergestellt werden können. Das System bietet eine Vielzahl von Sputterquellen, darunter planare Magnetronquellen, Richtungs-DC-Magnetronquellen und Diodenquellen. Wenn sie in andere Prozesse wie die chemische Dampfabscheidung integriert werden, können 4450 verwendet werden, um eine breite Palette von fortschrittlichen Materialien zu produzieren. Die verbesserte Folieneinheitlichkeit und kontrollierbare Oberflächeneigenschaften sind einige der Hauptmerkmale von PERKIN ELMER 4450. Die Einheit basiert auf einer flexiblen Mehrzonen-Prozesskammer und hat eine Pumpgeschwindigkeit von mehr als 6 Liter/Sekunde. Es ist entworfen, um eine ausgezeichnete Kammer- und Substrattemperaturregelung mit einer präzisen Temperaturkontrollauflösung von Raumtemperatur bis 250 Grad C bereitzustellen. Das benutzerfreundliche Design ermöglicht eine einfache und zuverlässige Prozessparametereinstellung und -überwachung. Die Maschine kann zur Abscheidung verschiedener Metalle, Metalllegierungen, Oxide und anderer Materialien verwendet werden. Es bietet hohen Durchsatz und hohe Wiederholbarkeit bei niedrigen Betriebskosten. Das Werkzeug ist mit einer programmierbaren Substratvorspannung bis zu ± 300 V und bis zu ± 190V Gleichstrom (DC) Magnetronsputterquellen ausgestattet. Es liefert auch ausgezeichnete hohe Sputterrate mit niedrigen Ionenschäden durch den Einsatz von nicht kontaminierenden, ultrahochvakuumkompatiblen Prozessgasen wie Argon, Stickstoff, Sauerstoff und Kohlendioxid. 4450 ist ein idealer Vorteil für PVD-Anwendungen wie Dünnschichtdielektrika, Halbleiterfilme, Metallfilme, Metalloxide und Nitride, PIN-Dioden und optische Beschichtungen. Das Modell bietet eine hervorragende Prozesskontrolle, die eine zuverlässige Abscheidung von Dünnfilmen mit präziser Zusammensetzungssteuerung ermöglicht. Es hat eine hohe Abscheidungsgeschwindigkeit und eine präzise Parameterkontrolle für die reproduzierbare Dünnschichtabscheidung. Darüber hinaus tragen die niedrigen Betriebskosten und der kompakte Platzbedarf dazu bei, Ausfallzeiten zu minimieren und die Raumeffizienz im Labor zu maximieren.