Gebraucht SEMICORE SC9900 #9213729 zu verkaufen

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Hersteller
SEMICORE
Modell
SC9900
ID: 9213729
Sputtering system Includes: DRESSLER RMC-1 Matching controller (2) MDX Magnatron Drives GP 307 Vacuum gauge controller MKS OEM-12B RF Generator ADVANCED ENERGY RFX 5500 RF Generator ADVANCED ENERGY Pinnacle Plus pulsed DC power supply MKS 247 4-Channel readout TERRANOVA 908A Dual capacitance diaphragm gauge SRS RGA 100 Residual gas analyzer CTI-CRYOGENICS 9600 Compressor EDWARDS RV 12 Vacuum pump CTI-CRYOGENICS On-board cryopump with controller Control panel PC & Related parts.
SEMICORE SC9900 Sputtering Equipment ist ein hochmodernes Multi-Target-Sputtersystem, das für die Dünnschichtabscheidung ausgelegt ist. Es ist mit den neuesten Fortschritten in der multimodalen Sputtertechnologie ausgestattet, um eine großflächige, gleichmäßige Dünnschichtbeschichtung bereitzustellen. SC9900 wurde entwickelt, um unterschiedliche Arbeitslasten zu bewältigen und liefert wiederholbare, konsistente Produktionsergebnisse. Die Sputtereinheit SEMICORE SC9900 verfügt über eine lastgesperrte Vakuumkammer mit zwei Kathoden. Es verfügt über eine patentierte Multi-Target-Sputter-Source-Technologie mit mehreren drehbaren Targets, so dass mehrere Metallschichten in einem Verarbeitungszyklus abgeschieden werden können. Diese Maschine verfügt über drei separate Prozessmodule, die jeweils für zwei Abscheideprozesse optimiert sind: Ein- und Zweikathoden-Magnetron und Triodensputtern. Das Werkzeug verfügt auch über zwei Bogenquellen für reaktives Sputtern mit zwei Kathoden. SC9900 hat auch eine maßgeschneiderte 12-Ziel-Sputter-Pistole. Die Pistole ist ergonomisch und bietet direkten Abwärtsvorschub für optimierten Kammerzugang und minimale Geräusche auf den Kathoden. Seine Multi-Target-Sputterquelle bietet konstante Beschichtungsleistung und gleichmäßige Beschichtungen auf großen Substraten. Die Pistole hat einen einstellbaren Sputterwinkel von 0 ° bis 30 ° und zwei unabhängige Duschkopfdüsen mit einstellbaren Konfigurationen zur besseren Steuerung der Sputtermaterialrichtung. Die Vakuumkammer innerhalb der Sputteranlage ist aus Opfermaterial aufgebaut, um einen geringen Holzverschleiß und eine überlegene Kontrolle der Partikelverschmutzung zu gewährleisten. Es ist mit Hochleistungspumpsystemen, einem auf 875 ° C erwärmten Quarzsubstratfutter, einer Vakuumsperrkammer, einem 5-Positionen-Gaskasten und einem Gasmischkrümmer ausgestattet. Alle diese Geräte wurden entwickelt, um die Abscheideraten zu verbessern und wiederholbare Prozessergebnisse zu gewährleisten. SEMICORE SC9900 verfügt über eine fortschrittliche benutzerfreundliche Oberfläche, die mit überlegenen Grafiken und programmierbaren Rezepten entworfen wurde, um eine maximale Kontrolle über Prozessparameter zu ermöglichen. Das Modell ist zudem kompakt und verfügt über außergewöhnliche Energieeffizienz und vereinfachte Wartungsanforderungen. All diese Eigenschaften machen SC9900 Sputtergeräte zu einer überlegenen Wahl für Inline-Sputtersysteme. Seine hohe Abscheidungsrate und kompakte Bauweise machen es ideal für die Abscheidung einer Vielzahl von Metall- und Oxidschichten auf großen Substraten und Geräten in einem einzigen Verarbeitungszyklus. Mit seiner benutzerfreundlichen Schnittstelle, integrierten Systemkomponenten und verbesserter Prozesskonsistenz ist diese Einheit ideal für die Beschichtung einer Vielzahl von Substraten mit einheitlichen, zuverlässigen und wiederholbaren Ergebnissen.
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