Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Nexx Nimbus PVD #9212338 zu verkaufen

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ID: 9212338
Weinlese: 2006
Sputtering system Missing parts: HX Dep chamber HX Loadlock cooling Cryo pump Dep bottom Cryo pump (Dep side) Robot arm (Bottom and top) Load lock assembly GENMARK Controller DC Generator (Dep) RF Generator (Etch) (5) Pentagon water hoses Ion-gauge (Dep) Ion-gauge (Etch) Pentagon motor Elevator motor Process robot motor Flow meter (Load lock) Flow meter (Pentagon) (4) ALCU Magnetrons Power: 120/208 V, 50/60 Hz, 3 Phase, 5 W, Maximum 150 Amps 2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Nexx Nimbus PVD (Physical Vapor Deposition) ist eine Sputterausrüstung, die auf eine Vielzahl von Materialien und Anwendungen ausgerichtet ist. Diese hochmodernen Instrumente verfügen über hochpräzise Technologie, die eine Verbesserung der Prozessfähigkeit ermöglicht. Dieses Sputtersystem wurde mit TEMs (Thin Film Elecron-Multiplikator Unit) entwickelt. Diese Maschine ermöglicht die automatische Korrektur von Eingangsdatenfehlern unter Beibehaltung der Genauigkeit des Plasmas. Dieses Merkmal ermöglicht verbesserte Prozessausbeuten, was zu qualitativ hochwertigeren Elektrodenprodukten führt. Die PVD verwendet auch eine einzigartige hohe Seitenverhältnis Kammerdesign. Diese Konstruktion bietet eine optimale Steuerung der Kammeratmosphärendynamik auf Basis erhöhter Gleichmäßigkeit in Prozessen. Das Kammerdesign erleichtert auch schnellere Sputterzeiten, so dass Kunden die Chargenerträge und den Durchsatz maximieren können. TEL Nexx Nimbus PVD bietet ein umfangreiches Angebot an austauschbaren Mehrfachelektroden. Diese Funktion bietet Kunden Flexibilität bei der Elektrodenauswahl. Diese Elektroden können an ihre spezifischen Bedürfnisse angepasst werden, sodass Kunden ihre spezifischen Prozesse für verschiedene Materialien optimieren können. TOKYO ELECTRON Nexx Nimbus PVD verfügt auch über ein zentralisiertes Bedienfeld. Diese Funktion ermöglicht eine einfache Anzeige des Betriebszustands und ermöglicht eine Echtzeitdiagnose. Auf diese Weise können Anwender eine schnelle Diagnose und Fehlerbehebung durchführen, wodurch Ausfallzeiten minimiert und der Durchsatz maximiert wird. Darüber hinaus verfügt Nexx Nimbus PVD auch über eine ganze Reihe von Prozessoptionen, darunter: Oxidation, Nitridation, Ionenimplantation, Ätzen und Diffusion. Diese Vielseitigkeit ermöglicht es Kunden, Prozesse einfach auf optimale Ergebnisse einzustellen. Zusammenfassend ist TEL/TOKYO ELECTRON Nexx Nimbus PVD ein hochmodernes Sputterwerkzeug, das eine verbesserte Präzision und Kontrolle bietet. Dieses hochmoderne Asset verfügt über ein einzigartiges Kammerdesign, mehrere austauschbare Elektroden und eine Reihe von Prozessoptionen. All diese Merkmale ermöglichen eine verbesserte Ausbeute und Produktion von Qualitätsprodukten.
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