Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON / NEXX Nimbus 364 #9202788 zu verkaufen

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ID: 9202788
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
Sputtering system, 12" Nimbus XP-RDL system (354): 8"/12" Includes: MAGNETRON: G1 HP (Ti) MAGNETRON: G1 HP (W) MAGNETRON: G1 HP (Al) (3) MAGNETRONS : AL HP (Al) ICP Etch Second cryo pump: Deposition chamber RF Substrate bias Load lock degas (2) ESC Trays: 12" Additional cable length EMO State SECS/GEM 2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX Nimbus 364 ist ein hochmodernes Sputtersystem, das speziell für Halbleiter- und Photonenanwendungen entwickelt wurde. Es ermöglicht eine hohe Prozesssteuerung und Präzision für die Herstellung von Verbundhalbleiterbauelementen wie LEDs, Solarzellen, Displays und Bildsensoren. Die fortschrittlichen DC- und Hi-Bias RF-Sputterprozesse von TEL Nimbus 364 bieten branchenführende Prozessfähigkeiten. Es verwendet Dynamic Process Control (DPC), eine fortschrittliche Sputtertechnologie, die eine Feineinstellung der Abscheidungsmenge durch Steuerung der Stromversorgungsamplitude und der negativen Vorspannungsimpulsfrequenz ermöglicht. Diese Art der Prozesskontrolle gewährleistet die Herstellung überlegener Materialien bei gleichbleibender Wiederholbarkeit der Ergebnisse. NEXX Nimbus 364 verfügt zudem über ein Doppelfrequenznetzteil, das eine hohe Leistung von bis zu 480W bietet und gleichzeitig die Flexibilität eines Zweifrequenzbetriebs bietet. Diese doppelte Fähigkeit hilft, das Auftreten von Lichtbogen während der Abscheidung zu reduzieren und verbessert daher die Gesamtgenauigkeit des Prozesses. Darüber hinaus hilft die „Fenster“ -Verriegelungssicherheit, Schäden am Substrat oder an Teilen zu verhindern, wenn während des Prozesses Fehler festgestellt werden. Das einzigartige Load-Lock des Systems ermöglicht ein schnelles und einfaches Be- und Entladen des Substrathalters und sorgt für schnelle und effiziente Arbeitsabläufe. Die diamantartige Kohlenstoffbeschichtung verbessert die Leistung der Kammer und des Substrats und sorgt für eine verbesserte Präzision und erhöhte Haltbarkeit. Die Hochtemperaturgrenze ist auf 368,2 ° C eingestellt, was eine überlegene Wärmekapazität ermöglicht, während das bequeme, ergonomische Bedienfeld für eine Touch-Steuerung des Prozesses sorgt. Nimbus 364 bietet Betreibern einen zuverlässigen und konsistenten Sputterprozess, der speziell auf die Anforderungen der heutigen Halbleiteranwendung zugeschnitten ist. Mit seinen fortschrittlichen Prozesssteuerungsfunktionen, überlegenen Materialspezifikationen und verbesserter Haltbarkeit ist das TOKYO ELECTRON Nimbus 364 System eine effektive Lösung, um die sich entwickelnden Anforderungen der Halbleiterindustrie zu erfüllen.
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