Gebraucht ULVAC CERAUS ZI 1000 #9207442 zu verkaufen

ULVAC CERAUS ZI 1000 ist eine fortschrittliche Sputterausrüstung zur Abscheidung von dünnen Filmen für Halbleiter-, MEM- und Dickschichtanwendungen. Dieses System ist für präzise Schichtsteuerung und Gleichmäßigkeit ausgelegt und kann Dickengenauigkeit bis zu einem einzigen Nanometer erreichen. Die Einheit besteht aus einer horizontalen Quelle, einem geerdeten Target und einer turbomolekularen Pumpe zur Gas- und Vakuumregelung. Die horizontale Quelle besteht aus zwei unabhängigen Magnetronpistolen und einem einstückigen keramischen Fluorpolymersubstrat, das einem vorbestimmten Abscheidungsprofil folgen kann. Das Target ist eine leitfähige Kupfer- oder Aluminiumplatte, die auf einem isolierenden Keramiksockel montiert ist. Der Gasdruck wird an der Sputterkammer durch die Turbo-Molekularpumpe aufrechterhalten. Der Sputterprozess selbst ist ein physikalischer Dampfabscheidungsprozess (PVD), bei dem ionisierende Gase zur Erzeugung eines Plasmas in der Abscheidekammer verwendet werden. Dieses Plasma wird verwendet, um Ionen im Arbeitsgas zu veranlassen, das Ziel mit hohen Geschwindigkeiten zu treffen, wobei Atome an das Substrat freigesetzt werden. Durch die Steuerung der Leistung der Zerstäubungsquelle kann die Menge des abgeschiedenen Materials und seine atomare Struktur gesteuert werden. ULVAC CERAUS ZI-1000 bietet eine Reihe von Funktionen, die es ideal für die Abscheidung von dünnen Filmen machen. Es verfügt über einen unabhängigen Verschlussmechanismus für jede Sputterquelle, der eine genaue Kontrolle der Abscheidung ermöglicht. Außerdem weist sie für jede Quelle ein vorprogrammierbares Profil auf, das eine gleichmäßige Abscheidung über das gesamte Substrat ermöglicht. Es verfügt auch über eine erweiterte Orientierungsmessmaschine, die es ermöglicht, die Position der Sputterquelle automatisch einzustellen, um sicherzustellen, dass das Ziel die höchste mögliche Leistungsdichte erhält. Darüber hinaus verfügt das Sputterwerkzeug über einen Filmdickenmonitor, der eine präzise Kontrolle der Schichtdicke ermöglicht. Es verfügt auch über eine Ionisationsüberwachung, die Echtzeit-Rückkopplung bezüglich des Plasmabildungsprozesses liefert. Schließlich verwendet das Modell fortschrittliche Algorithmen, um die Abscheidung einheitlicher Schichten über das Substrat sicherzustellen. CERAUS ZI 1000 ist eine ideale Wahl zum Sputtern von dünnen Filmen für Halbleiter-, MEM- und Dickschichtanwendungen. Seine fortschrittlichen Funktionen machen es für die Erzielung einer präzisen Schichtsteuerung und Gleichmäßigkeit geeignet, während seine intuitive Engineering-Schnittstelle es einfach zu bedienen macht. Mit seiner genauen Dickenbestimmung und seiner ausgeklügelten Orientierungsmesseinrichtung sorgt dieses System für präzise und konsistente Ergebnisse bei der Abscheidung dünner Filme.