Gebraucht ULVAC ULDIS-900-CHL #9113738 zu verkaufen

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Hersteller
ULVAC
Modell
ULDIS-900-CHL
ID: 9113738
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2005
Digital sputtering machine, 8" Capacity: 32 pcs for 1 batch Carousel system: φ900xh700mm 12sides Substrate holder: w208mmxL700mmx t12mm (12) Pieces Total substrates number: 03.2mm (36) Pieces Load lock Cassette to cassette Currently stored in clean room 2005 vintage.
ULVAC ULDIS-900-CHL ist ein Hochleistungsmagnetron stotternde Ausrüstung, die für verschiedene Anwendungen wie Dünnfilmabsetzung entworfen ist, OLED zeigen prototyping und optische Überzüge. Dieses Sputtersystem verwendet eine einzigartige kompakte Konfiguration, die leistungsstarke Magnetfelder und Ultrahochvakuumtechnologie kombiniert, um die höchsten Abscheidungsraten zu erreichen, die in einer Sputtereinheit mit einer einzigen Quelle verfügbar sind. ULDIS-900-CHL verwendet einen Quadpol-Typ multi-magnetron Traubenspritzenquelle, die genaue Kontrolle über die Zielmaterialbewegungsverteilung bietet. Diese Maschine ermöglicht die Mehrschicht- oder Mehrkomponenten-Dünnschichtabscheidung mit bis zu 4 Magnetronen, die unabhängig voneinander betrieben und kombiniert werden. Jedes Magnetron ist mit leistungsstarken Magneten ausgestattet, um Plasma mit hoher Dichte zu erzeugen. ULVAC ULDIS-900-CHL verfügt auch über eine leistungsstarke Gasentladungsquelle, um ein gleichmäßiges Hochleistungsplasma zu erreichen, was zu Ablagerungen präziser optischer Eigenschaften führt. Der Roboterarm von ULDIS-900-CHL ermöglicht eine präzise automatisierte Bewegung des Probenhalters. Dieses Werkzeug kann den Probenhalter beim Sputtern genau bewegen und positionieren, so dass mehrstufige Beschichtungsprozesse oder komplexe Beschichtungen in nur einem Schritt möglich sind. Darüber hinaus unterstützt diese Anlage kundenspezifische Substrathalter für verschiedene Substrate, einschließlich flacher Substrate, zylindrischer Substrate und gekrümmter Substrate. Weitere Merkmale des Modells, wie computergesteuerte Bedienung, eine benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche, Echtzeit-Rezeptsteuerung und Erweiterungsoptionen machen es zu einem leistungsstarken und benutzerfreundlichen Werkzeug für die Abscheidung von Mehrschicht- oder Mehrkomponenten-Dünnschichtablagerungen. Als solche ist diese Sputteranlage ideal für die industrielle Herstellung von Dünnschicht- und optischen Beschichtungen.
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