Gebraucht ULVAC Z-1200 #293610444 zu verkaufen
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ID: 293610444
Wafergröße: 6"
Sputtering system, 6"
Ti Chamber
TMP Turbo pump missing.
ULVAC Z-1200 ist eine hochpräzise Sputterausrüstung, die typischerweise für die fortgeschrittene Dünnschichtabscheidung verwendet wird. Es ist für eine überlegene Kontrolle der Abscheidungsrate und der Filmgleichförmigkeit ausgelegt. Es bietet eine umfassende Palette von physikalischen Dampfabscheidungsdisziplinen, einschließlich induktiv gekoppeltem Plasma (ICP) und Gleichstrom (DC) Sputtern. Mit fortschrittlicher Ultrahochvakuum (UHV) -Technologie wird eine hochwertige Dünnschichtabscheidung erreicht. Z-1200 ist mit einer ULVAC-Gleichstromquelle ausgestattet, die fortschrittliche DC-Ausgangseigenschaften mit geringer Lichtbogenbildung erzeugt und eine hochpräzise Abscheidung ohne Wiederauffallen ermöglicht. Diese Stromquelle ist in der Lage, bis zu 1000 W Leistung zu erzeugen, was hochkonforme Beschichtungen ermöglicht. Die Stromquelle verfügt zudem über eine Temperaturregelung von bis zu 1000 ° C und kann per Fernbedienung betrieben werden. Darüber hinaus ist ULVAC Z-1200 mit einem Vakuummessmodul ausgestattet, das die Platzierung und Bewegung der Messgeräte innerhalb der Kammer ermöglicht. Z-1200 kommt mit mehreren Sputterquellen ausgestattet, können Benutzer mehrere reaktive Prozess haben, um die perfekte Dünnschicht Abscheidung zu erstellen. Zusätzlich zum DC-Sputtern verfügt das System über ionisiertes und nicht-ionisiertes Sputtern, Metall- und Keramikabscheidung und genau gesteuerte magnetische Funktionen für überlegene Abscheidungsrate und Filmeinheitlichkeitskontrolle. Die Einheit besteht aus zwei Hauptkomponenten, der Hauptkammer und der Teilkammer. Die Hauptkammer ermöglicht UHV mit einem Basisdruck von 3 × 10-10 Torr. Im Inneren befindet sich ein rotierender Drehteller, um mehrere Sputterquellen zu aktivieren. In der Teilkammer wird das Plasma erzeugt und erzeugt. Dieses Design ermöglicht es ULVAC Z-1200, verschiedene Gase für die Plasmaerzeugung zu mischen. Z-1200 hat auch Heizfähigkeit mit zwei thermischen Diffusionspumpen und die Möglichkeit einer keramischen Heizung. Wassergekühlte Prozesssteuerung ist auch auf der Maschine vorhanden, was eine genaue und effiziente Temperaturregelung ermöglicht. Darüber hinaus verfügt das Werkzeug über einen verformbaren Spiegel und Ablagerionisator (DMI/DMAI), die es ideal für atomar konforme Abscheidung machen. ULVAC Z-1200 ist eine leistungsstarke und vielseitige Sputteranlage, die eine fortschrittliche Dünnschichtabscheidung mit mehreren physikalischen Dampfabscheidungsdisziplinen bietet. Das Modell besteht aus hochpräzisen Komponenten, die eine überlegene Kontrolle der Abscheiderate und der Folieneinheitlichkeit sowie eine ausgeklügelte UHV-Technologie für hochkonforme Beschichtungen bieten. Diese leistungsstarke Ausrüstung ist die perfekte Wahl für Forschungs- und Entwicklungslabore, die höchste Präzision in ihren Dünnschichtablagerungen benötigen.
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