Gebraucht UNAXIS / BALZERS LLS 502 #9214650 zu verkaufen

UNAXIS/BALZERS LLS 502 ist eine Sputteranlage für eine Vielzahl von Dünnschichtanwendungen. Das System verfügt über einen Zielhalter mit fünf Zoll Durchmesser, eine Sechs-Zoll-Kathode und eine Lastverriegelungseinheit für effizientes Be- und Entladen von Substraten. Die maximale Substratgröße beträgt 6 „x 4,75“. Die Maschine läuft mit einer maximalen Plasmaleistung von 360 Watt bei hoher Gleichmäßigkeit und geringer Plasmaungleichförmigkeit. Das Lastverriegelungswerkzeug überwacht kontinuierlich Druck, Temperatur und Geschwindigkeit auf präzises Be- und Entladen von Proben. Das Ziel-Manipulation-Asset bietet eine hochgenaue Zielsteuerung und ermöglicht eine maximale Zielauslastung. Das PECVD-Modul des Modells bietet eine breite Palette von Prozessparametern. Seine Prozesskammer verfügt über ein einteiliges Belljar mit einem optisch zugänglichen Viewport. Es ist in der Lage, präzise Kammertemperaturen, Drücke und Gase über einen weiten Bereich von niedrigen bis mittleren Temperaturen zu halten. Das Gerät verfügt außerdem über ein Sputtermodul, das sowohl dünne als auch dicke Folien verarbeiten kann. Es verfügt über eine Drei-Zonen-Prozesskammer, eine Drei-Zoll-Innendurchmesser Edelstahl zylindrische Vakuumkammer, ein Vier-Zonen-Magnetron, und ein Drei-Zonen-Schnellstopp-Bewegungssystem. Die Gleichmäßigkeit und Homogenität von Sputterfilmen kann mit der Magnetisierungseinheit erreicht werden, die eine Magnetfeldprofilsteuerung ermöglicht und ein gleichmäßiges Sputtern von Substraten bis 6 "Größe ermöglicht. Die Prozesssteuerung der Maschine verfügt über eine Windows-basierte Bedienoberfläche für die nahtlose Integration von Werkzeugen. Es verfügt über ein sicheres RAS-Asset, das den Zugriff auf das Modell von überall aus über eine Internetverbindung ermöglicht. Die Ausrüstung verfügt auch über leistungsstarke Prozesssteuerungsfunktionen wie Chargenrezepte, mehrere Prozessprofile und variable Leistungssteuerung. Insgesamt ist UNAXIS LLS 502 ein hochpräzises Sputtersystem, das für eine Vielzahl von Dünnschichtanwendungen geeignet ist. Es verfügt über einen Zielhalter mit fünf Zoll Durchmesser, eine Sechs-Zoll-Kathode und eine Lastverschlusseinheit für effizientes Be- und Entladen von Substraten. Die PECVD-, Sputter- und Prozesssteuerungsmodule bieten eine breite Palette von Verarbeitungsfunktionen für eine Reihe von Dünnschichtanwendungen.