Gebraucht VARIAN 3125 #38005 zu verkaufen

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VARIAN 3125
Verkauft
Hersteller
VARIAN
Modell
3125
ID: 38005
DC Sputtering system (3) Conical targets, 5" (3) Planetary systems accommodate: Up to 6"-8" diameter Sputter metals & indium oxides Diffusion pumping system with LN cold trap Rotating planetary system.
VARIAN 3125 Ion Source Sputter Equipment ist ein Sputtersystem im Labormaßstab zur Oberflächenbeschichtung von Substraten mit inerten oder reaktiven Gasen. Es ist in der Lage, Materialien mit geringem oder hohem Atomgewicht auf das Substrat zu ätzen, abzuscheiden und zu legieren. 3125 ist eine hochwertige, kostengünstige Lösung für Laborsputterbeschichtungsanwendungen und kann für die Kleinserienfertigung in einer Vielzahl von sputterbasierten Experimenten verwendet werden. VARIAN 3125 verfügt über einen Ionenenergieregler zur präzisen und genauen Energieeinstellung. Es hat auch eine große Kathodenfläche und eine leistungsstarke Magnetron-Sputterpistole. Diese Pistole ermöglicht die Bewegung des Substrats in jede Richtung, so dass eine vollständige und homogene Abdeckung des Targets. Zusätzlich besitzt 3125 einen Vakuumdruck von 10-2 mBar und eine Pumpzeit von ~ 10 Minuten. Die Einheit besteht aus mehreren Komponenten, darunter einem Hochvakuum-Pumpmodul, einer Kryopumpe und einer Vakuum-Dosierstation mit manueller Übersteuerungsmaschine. Darüber hinaus verfügt das Gerät über ein luftgekühltes Netzteil mit einstellbarer negativer und positiver Vorspannung. Darüber hinaus verfügt VARIAN 3125 über ein manuelles Steuerwerkzeug, mit dem der Bediener die Sputter-Prozessparameter anpassen kann. Die vielseitige 3125 eignet sich sowohl für DC- als auch für HF-Sputterverfahren. Es ist auch in der Lage, aus einer breiten Palette von Metallen, Nitriden, Oxiden und Legierungen zu zerstäuben. Die Anlage ermöglicht das Sputtern von drehbaren Zielsubstraten, einschließlich Keramik, Glas und starren Wachssubstraten, sowie flexiblen und nicht-flachen Substraten. Verschiedene Parameter stehen dem Benutzer zur Verfügung, um seinen Sputterprozess anzupassen, einschließlich DC/RF-Leistungspegel, Raten, Zeit und Kühlparameter. Mit VARIAN 3125 können Proben auch während des Prozesses magnetisch gedreht werden. Diese Rotation erhöht die Gleichmäßigkeit der Abscheidung. 3.125 Ionsquelle Stottert Modell ist eine wirksame, benutzerfreundliche Lösung für die kleine und Laborproduktion stottern Überzuganwendungen. Es ermöglicht dem Benutzer, seinen Prozess an seine spezifischen Anforderungen anzupassen. Durch seine Optimierung und Stabilität kann es zuverlässig in einer Vielzahl von Sputteranwendungen eingesetzt werden.
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