Gebraucht VARIAN 3290 STQ #9188626 zu verkaufen

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VARIAN 3290 STQ
Verkauft
Hersteller
VARIAN
Modell
3290 STQ
ID: 9188626
Weinlese: 1997
Submicron sputtering system 1997 vintage.
VARIAN 3290 STQ ist eine hochentwickelte Sputterabscheidung, die für einen konsistenten und zuverlässigen Sputterprozess entwickelt wurde. Seine Eigenschaften machen es für eine breite Palette von Industrie- und Forschungsanwendungen geeignet. VARIAN 3290STQ wird typischerweise zum Sputtern dünner Folien auf Substrate verschiedener Materialien wie Metalle, Halbleiter, Dielektrika, Polymere und Keramik verwendet. Das System hat zwei Hauptkomponenten: eine Vakuumkammer und eine Ionenquelle. Beide Komponenten sind in ein einziges, kompaktes Gerät integriert. Die Vakuumkammer besteht aus einem Außenzylinder, einem Innenzylinder und einer Frostwand. Der äußere Zylinder ist erforderlich, um eine Niederdruckumgebung zu schaffen, während der innere Zylinder und die Frostwand eine enge Kontrolle der Temperatur und der Sputterposition des Substrats gewährleisten. Die Sputterpistole ist positionell und einstellbar, was eine präzise Sputterabdeckung des Substrats ermöglicht. Die Ionenquelle ist für die Herstellung von Hochgeschwindigkeits-Ionen verantwortlich, die zum Sputtern des Zielmaterials verwendet werden. Diese Einheit ist hoch einstellbar, so dass eine Vielzahl verschiedener Zielmaterialien für verschiedene Anwendungen verwendet werden können. Die Quelle ist in der Lage, bis zu 12 kW zu produzieren, so dass sie leistungsstark genug ist, um eine Vielzahl von Metallen und Halbleitern zu sputtern. 3290 STQ ist zudem mit modernsten Prozessleitsystemen ausgestattet. Der PID-Controller und die SCADA-Systeme ermöglichen eine präzise Kontrolle des gesamten Sputterprozesses und gewährleisten jedes Mal konsistente Ergebnisse. Darüber hinaus ist die Maschine für die einfache Integration mit anderen Komponenten konzipiert, so dass eine vielseitige Einrichtung für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet ist. Insgesamt ist 3290STQ Werkzeug so konzipiert, dass es einen zuverlässigen Sputterprozess mit präziser Kontrolle über den gesamten Abscheideprozess ermöglicht. Seine einstellbare Ionenquelle und Kammerkonfiguration machen es für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet, während seine Prozesskontrollfunktionen eine große Genauigkeit für konsistente Ergebnisse bieten.
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