Gebraucht VARIAN M 2000 #9278013 zu verkaufen
Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.
Verkauft
ID: 9278013
Wafergröße: 6"
Sputtering system, 6"
Wafer type: Flat
Target assy
(2) Cassette batches: 25 Slots
Cassette environment: Vacuum
Main frame with (4) chambers
(6) Racks
Chiller
Power rack
(2) Monitors
Pump power interface
(2) Compressors
(5) Oil pumps
Damage parts:
CE2
Chamber A2
Rack for chamber A2
Quantum source
Missing parts:
Turbo pump including pipe fittings
Wafer temperature controller
Heater power supply controller.
VARIAN M 2000 ist eine Präzisionssputterausrüstung, die sich ideal für die Abscheidung von dünnen Folien eignet. Es ist mit allen notwendigen Komponenten zum Sputtern von dünnen Folien ausgestattet, wie einer Sputterpistole, einer feinjustierten Positionierung, einer Prozesssteuerung, einer Diagnose und einem Vakuumsystem. Die Sputterpistole ist so konzipiert, dass sie eine schnelle und präzise Positionierung ermöglicht, sodass bis zu drei Ziele gleichzeitig gesputtert werden können. Seine erregte Plasmaquelle richtet das zerstäubte Material mit dem Substrat aus und ermöglicht eine gleichmäßige Filmabscheidung über den gesamten Arbeitsbereich. Die Pistole ist auch mit einem einfach zu bedienenden Bedienfeld ausgestattet, das eine Vor-Ort-Überwachung und Steuerung des Sputterprozesses ermöglicht. VARIAN M2 000 bietet zudem eine präzise Lageregelung, die eine dünnere, gleichmäßigere Abscheidung des Sputtermaterials ermöglicht und eine gleichmäßige Dünnschichtdicke über den Arbeitsbereich gewährleistet. Positionserfassungsregler ermöglichen Präzisionsrotation und Neigung der Sputterpistole. Eine solche präzise Dreh- und Kippregelung ist besonders wichtig, wenn komplexe Substrate unter einem Winkel gesputtert werden. Die Prozessdiagnostik von M 2000 ermöglicht die Echtzeit-Überwachung und Steuerung des Sputterprozesses. Solche Diagnostika umfassen Partikeldetektion, Vakuumüberwachung, Substrattemperaturmessungen, Gasströmungsmessung und Drucksensormessungen. Damit können Bediener den Sputterprozess überwachen und analysieren, um die effizientesten Prozessparameter zu ermitteln. M2 000 ist auch mit einer Vakuumeinheit ausgestattet, die in Kombination mit ihren anderen Merkmalen einen extrem kontrollierten Abscheidevorgang ermöglicht, der die genaueste verfügbare Dünnschichtabscheidung garantiert. Detaillierte Parameter wie Leckrate, Oberflächenrauhigkeit und Filmdicke können mit dieser Maschine gesteuert werden. Abschließend ist VARIAN M 2000 ein Sputterwerkzeug zur präzisen Dünnschichtabscheidung. Seine präzise Sputterpistole, präzise Positionssteuerung, Prozessdiagnose und ultra-kontrollierte Vakuumanlage macht VARIAN M2 000 die ideale Wahl für jede Forschungsanforderung oder kommerzielle Dünnschichtabscheidung Anforderung.
Es liegen noch keine Bewertungen vor