Gebraucht VEECO / DEKTAK Spector #9160719 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9160719
Weinlese: 2000
Dual ion beam sputtering system
Dual ion sources:
16 cm Ion source as the major sputtering source
12 cm Ion source as assisting source
Target:
(3) Round targets, 14" dia
Water cooled backing plate
Target materials: 1 Ta & 2 SiO2
Rotation:
High speed fixture
Internal control
Water cooling
Heater: Yes
Pumping system:
CTI CRY-400 On-board
CTI 9600 Compressor
Mechanical pump (US Motor model G78597)
RGA: No
OMS:
VEECO OMS system, excluding tunable laser source
VEECO OMS computer and OMS hardware setup excluding tunable laser
VEECO OMS software loaded with the OMS computer
Controllers Included:
RF-2001 Controller
DC Bias 2051
Neutralizer 2070
Software: Spector version 6.0
Applications:
DWDM Filters
Laser line filters
Packing density filters
Optical thin film for high-power laser applications
Currently installed
2000 vintage.
VEECO/DEKTAK Spector ist eine Sputterausrüstung für hochpräzise Oberflächenprofilierung. Es verwendet eine Kombination aus Röntgenoberflächenreflektometrie (XSR) und einem optischen interferometrischen Encoder (OIE), um die Oberflächeneigenschaften eines Substrats zu messen. Das VEECO Spector-System verwendet einen Kathodenzerstäubungsprozess, um eine Schicht aus abgeschiedenem Material auf der Probe zu bilden. Die XSR-Technik ermöglicht die genaue Bestimmung der Oberflächentopologie, während die OIE die Messung der Oberflächenrauhigkeit ermöglicht. Bei der XSR-Technik wird Röntgenstrahlung von einer Röntgenquelle auf die Probenoberfläche projiziert. Die reflektierte Strahlung wird dann von einem Röntgendetektor empfangen und zur Bestimmung der Topologie der Probe analysiert. Der OIE-Encoder arbeitet in ähnlicher Weise, aber anstatt auf Röntgenstrahlung beschränkt zu sein, kann jede Lichtquelle verwendet werden. OIE verwendet eine Interferenztechnik, bei der Licht in zwei Strahlen aufgeteilt und von der Probenoberfläche reflektiert wird. Der Unterschied in den reflektierten Strahlen wird verwendet, um das Oberflächenprofil genau zu erfassen. DEKTAK Spektorsputtereinheit enthält eine Remote-Vakuummaschine, einen Druckmonitor und eine Computerschnittstelle zur Steuerung der Werkzeugeinstellungen. Die Vakuumanlage ist für die Aufrechterhaltung des Vakuums in der Kammer verantwortlich und kann so programmiert werden, dass sie Sollwerte von 1,0 mbar bis zu 1e-8 mbar erreicht. Die Drucküberwachung misst den Druck in der Kammer und sendet Alarm, wenn der Druck die eingestellte Grenze erreicht. Die Computerschnittstelle wird verwendet, um die Sputterquellenleistung, die Abscheiderate, die Substratrotation und andere Parameter zu steuern. Spektorsputtermodell wird für eine Reihe von Materialien Abscheidung, Oberflächenmodifikation und Analyse Anwendungen einschließlich Metallabscheidungen, Oxide, dünne Filme, gesputterte Oxide und Nanostrukturen verwendet. Es ist in der Speicher- und Elektronikindustrie weit verbreitet und ermöglicht präzise Schichtsteuerung und Gleichmäßigkeit. VEECO/DEKTAK Spektorsputtergeräte können auch zur Überwachung von Wachstumsraten vor Ort sowie zur Analyse der strukturellen Eigenschaften des abgeschiedenen Materials eingesetzt werden. Abschließend ist VEECO Spector Sputtersystem eine fortschrittliche Oberflächenprofilierungs- und Materialabscheidungseinheit. Es verwendet die XSR-Technik zur Oberflächentopologiebestimmung und die OIE zur Oberflächenrauhigkeitsmessung und wird für eine Reihe von Anwendungen zur Materialabscheidung, Oberflächenmodifikation und Analyse verwendet. Die Maschine ist in der Speicher- und Elektronikindustrie weit verbreitet und ermöglicht eine präzise Schichtsteuerung und Gleichmäßigkeit.
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