Gebraucht ACCRETECH / TSK PG 300 RM #9399556 zu verkaufen

ACCRETECH/TSK PG 300 RM ist eine Scheibenschleif-, Läpp- und Polieranlage, die zur präzisen Maß- und Rauheitsregelung von Halbleiterscheiben verwendet wird. Das Zweiköpfe-System schleift und poliert Wafer von 30mm bis 300mm Durchmesser gleichzeitig mit einem 4-Achsen-Tisch, wodurch ein hohes Qualitätsniveau ohne Vornuten erreicht wird. Mit einem Spülbehälter ist das Gerät für die vollständige Tauchbearbeitung der Wafer ausgelegt und verfügt über eine integrierte Medienlade- und Chemiezuführmaschine. Dadurch wird ein sicherer Nassvorgang ohne Luftpartikel oder Verschmutzung gewährleistet. Das Werkzeug eignet sich für eine breite Palette von Wafermaterialien wie Silizium, Galliumarsenid (GaAs), Galliumnitrid (GaN), monCrystal Silizium und Germanium. Das Wafer-Schleif- und Poliergerät ist mit einem AC-Servomotor und linearen Servomotor-Antriebssystemen mit geschlossener Schleife sowie linearen Präzisionsführungen ausgestattet, um eine hohe Genauigkeit, Wiederholgenauigkeit und Zuverlässigkeit zu gewährleisten. Eine CCD-Kamera und ein Laserlinienmessmodell werden verwendet, um sicherzustellen, dass korrekte Polierparameter beibehalten werden. Das Gerät verfügt auch über Bewegungssteuerungssoftware und eine digitale Steuerung, um zwischen Läpp- und Polierköpfen zu wechseln und Prozessparameter einzustellen. TSK PG300RM ist mit einem 10-Zoll-Touchscreen-Bildschirm und einem Datenverarbeitungs-PC ausgestattet, mit dem Benutzer den gesamten Schleifprozess überwachen und steuern können. Das System verfügt über eine Overarm Dressing Automation Einheit, die automatisch prüft und korrigiert Schleifbedingungen auf bessere Wiederholbarkeit und verbesserte Prozessstabilität. Die Maschine ist außerdem mit einem Kühlmittel-Druckregelwerkzeug ausgestattet, das eine präzise abrasive Aufhängung ermöglicht. ACCRETECH PG 300RM ist einfach zu bedienen und zu warten, mit automatisierter Wafer-Inspektion und Bruchquittierung. Es ist auch kostengünstig, da es verwendet werden kann, um mehrere Wafer zu verarbeiten, mit hohen Ertragsraten und Qualitätsniveaus. Die Anlage eignet sich sowohl für Forschung als auch für industrielle Anwendungen und eignet sich für eine Vielzahl von Substraten und Anwendungen mit hervorragenden Ergebnissen.