Gebraucht DNS / DAINIPPON 80A #9162939 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON 80A ist eine hochwertige Photoresist-Ausrüstung zur Herstellung elektronischer Bauelemente in Halbleitersubstraten. Das Resistsystem basiert auf dem konventionellen Negativ-Photoresist-Verfahren mit einem chemisch amplifizierten Novolakharz als Basisschicht. Mit einer Empfindlichkeit von 850 mJ/cm2 bietet es eine hervorragende Bildabgrenzung und eine hohe Reproduzierbarkeit. Es eignet sich für eine Vielzahl von Prozessen von der Herstellung von Submikron bis zur Herstellung von ultragroßen integrierten Schaltungen. Der Prozess beginnt mit der Schleuderbeschichtung des Harzes auf dem Substrat, gefolgt vom Vorbacken und Nachbacken. Durch das Vorbacken kann das Restwasser aus der Resistfolie verdampfen, bevor die Resistschicht der Fotomaske ausgesetzt wird. Beim Nachbelichtungsbacken backt der Resistfilm bei einer Temperatur über der Vorbrenntemperatur, härtet aus und verdichtet den Resistfilm. Der Nachbelichtungsbacken sorgt für eine gute Bildtreue, da die ausgehärtete Polymerschicht weniger als 0,5% außerhalb der Ebene Abweichung aufweist. Die erreichbare Mindesteigenschaftsgröße beträgt 0,6 µm, was zur Herstellung von Transistoren, Kondensatoren und anderen miniaturisierten elektronischen Bauelementen geeignet ist. Darüber hinaus enthält der Photoresist A-TSQ, was hilft, die Auswirkungen der Alkalipenetration zu reduzieren. Die entwickelte Folie wird dann in einer Lösung aus Natriumcarbonat und Ammoniumhydroxid entwickelt. Das resultierende Resistmuster wird dann durch einen Trockenätzprozeß auf das Substrat übertragen. Dieses Verfahren vereint hohe Bildtreue und geringe Trockenätzvorspannung, um eine ausgezeichnete Selektivität beim Ätzen verschiedener Materialien zu erreichen. DNS 80A eignet sich neben seinen Allzweckfähigkeiten für die Ionenimplantation und fortgeschrittene Strukturierung. Mit seinem niedrigen k-Faktor und der guten Fokustiefe führt die Resisteinheit in fortgeschrittenen Musterprozessen gute Leistungen aus. Es ermöglicht leistungsstarke Leistung und geringen Ertragsverlust und ist damit eine ideale Wahl für eine Vielzahl von Halbleiterproduktionsprozessen. Die Maschine ist zudem sehr zuverlässig und ermöglicht die Herstellung hochwertiger, zuverlässiger mikroelektronischer Komponenten. Es wurde in den letzten zehn Jahren in Produktionsprozessen eingesetzt, und seine Leistung war in dieser Zeit konstant. Seine Fähigkeit, wiederholbare und zuverlässige Halbleiterbauelemente auf kleinen und großen Wafern herzustellen, macht es ideal für eine Vielzahl von Anwendungen.