Gebraucht NIKON NSR 1755 i7A #293655188 zu verkaufen

NIKON NSR 1755 i7A ist ein fortschrittlicher Wafer-Stepper, der Fertigungsschichten auf Halbleiterscheiben mit Auflösungen auf Submikron-Niveau strukturieren kann. Als einer der fortschrittlichsten Stepper in NIKON iSeries ist es ideal für die Verarbeitung von anspruchsvollen erweiterten Knotenscheiben, einschließlich fortgeschrittener Knoten wie 5 nm und darunter. NIKON NSR 1755I7A ist mit einer schwingungsarmen, kaltkathodischen Direktmarkierungstechnologie (CCDM) ausgestattet, die die bildgebende Stabilität und Mustergenauigkeit ermöglicht, die für die Strukturierung von Untermikronen erforderlich ist. Die Kombination der CCDM-Bildaufbereitung und 7-Achsen-Stufeneinheit liefert eine unvergleichliche Substrat-zu-Substrat-Anordnungsgenauigkeit von weniger als 1,0 Mikron. Mit einer Echtzeit-Überwachungseinrichtung an Bord kann die Waferausrichtung kontinuierlich verfolgt und angepasst werden, um eine extrem hohe Genauigkeit während der Verarbeitung zu gewährleisten. NSR-1755I7A hat ein Sichtfeld von 25mm x 25mm und einen Gesamtdurchsatz von mehr als 250 Wafern pro Stunde. Es ist mit einem Hochleistungs-elektro-optischen Modul (EOM) integriert, das über ein verbessertes Wellenlängensystem für verbesserte Bildqualität und -durchsatz verfügt. Die EOM verfügt über eine erweiterte optische Einheit und Ultra-Violet und ArF Laser-Scan-Fähigkeit zur Abbildung komplizierter Muster in Wafern von einer Reihe von erweiterten Knoten. NIKON NSR-1755 I 7 A ist mit einer zuverlässigen robusten Konstruktion ausgestattet und verfügt über ein ergonomisches Layout für einfache Bedienung/Wartung. Es ist auch mit fortschrittlichen Umweltfunktionen ausgestattet, einschließlich einer Reinraumumumgebung der Klasse 1.000 und einer Mehrwellenlängen-Beleuchtungsmaschine. Mit dieser Funktion können High-End-Geräte mit minimalem Rauschen und minimaler Partikelverschmutzung verarbeitet werden. NSR 1755 i7A bietet die perfekte Plattform für die Strukturierung fortschrittlicher Knotenscheiben und gewährleistet gleichzeitig ein Höchstmaß an Genauigkeit und Zuverlässigkeit. Seine Fähigkeit, komplizierte Muster in fortgeschrittenen Prozessen wie 5 nm und darunter zu mustern, macht es zum idealen Werkzeug für die heutige Halbleiterherstellung.