Gebraucht NIKON NSR 2005 i9C #9192702 zu verkaufen

NIKON NSR 2005 i9C ist ein High-End-Tauchscheibenschrittgerät mit Schrittmotortechnologie. Es wurde entwickelt, um Hochleistungs-Bildgebungs- und Lithographie-Prozessausgaben mit minimierter Auswirkung auf den Durchsatz bereitzustellen. NIKON NSR2005I9C verfügt über eine breite Palette von Lithographieoptionen, darunter Multi Column Photomask (MCP), Edge Shaping (ES) und Sub-Nanometer Diffraction Limited Performance (SDLP). NSR-2005I9C ist ein hochmodernes System, das über eine einzigartige vollautomatische Kalibrierfunktion verfügt, die die gleichzeitige Messung aller Lithographieparameter ermöglicht. Dieses hocheffiziente System bietet eine überlegene Mustergenauigkeit und einen hohen Durchsatz, wodurch es für eine Vielzahl von Präzisionsmusteranforderungen geeignet ist. NIKON NSR 2005 I 9 C hat eine Vielzahl von Auflösungsoptionen, darunter so niedrig wie 10nm und 10 μ m für die direkte Bildgebung und überlagert auf 50nm. Dieser Wafer Stepper verfügt zudem über ein hohes Kontrastverhältnis mit absoluter minimaler Trübung, um eine optimale Bildqualität zu gewährleisten. Seine hohe Genauigkeit und Stabilität sorgen für zuverlässige und konsistente Ergebnisse bei der Übertragung eines Musters auf einen Wafer. NIKON NSR 2005-I9C hat einen großen Arbeitsbereich bis zu 6 Zoll, wobei die maximale Dicke eines Wafers bis zu 200mm beträgt. NSR 2005I9C verfügt auch über eine große Anzahl von optionalen erweiterbaren Komponenten, wie Kollimator, Laser-und Multi-Wellenlängen-Maske Ausrichtungen, und vieles mehr. Diese Komponenten bieten zusätzliche Flexibilität, um spezifischen Anforderungen gerecht zu werden sowie fortschrittliche bildgebende und komplette Lithographie-Prozesslösungen anzubieten. NSR 2005 I 9 C ist eine ideale Wahl für jede Lithographieanwendung, die hohe Genauigkeit, Durchsatz und Flexibilität erfordert. Seine hohe Produktivität, benutzerfreundliches Design und erweiterte Funktionen bieten eine einfache Bedienung und zuverlässige Möglichkeit, die Anforderungen an die Bildgebung auf Waferebene zu erfüllen.