Gebraucht NIKON NSR 2205 EX12B #9252483 zu verkaufen

NIKON NSR 2205 EX12B ist ein hochpräziser Wafer-Stepper, der die Qualität der Verarbeitung von Halbleiterbauelementen verbessert. Es ist mit einer breiten Palette von Optik und nanoskalige Ausrichtungsgenauigkeit für Wafer bis 12 Zoll in der Größe. Dieser Wafer-Stepper ist in der Lage, eine Vielzahl von Retikeln zu unterstützen, einschließlich austauschbarer, Vollfeld- und Master-Feld-Lithographie-Tools. NIKON NSR-2205EX12B ist mit einer fortschrittlichen Retikelstufe ausgestattet, die eine ultrapräzise Retikelbewegung in den x- und y-Achsen zur präzisen Ausrichtung und Registrierung von Photolithographiemasken ermöglicht. Es ist auch mit einem XYG-Scanner für Echtzeit-Overlay-Messung ausgestattet, sowie NIKON eigenen proprietären SmartDoseTM-Fähigkeit, die eine automatisierte Dosissteuerung ermöglicht. Hinsichtlich der bildgebenden Fähigkeit ist NSR-2205 EX12B in der Lage, bis zu 17nm Linienbreiten bei einer Wellenlänge von 248nm aufzulösen. Es ist auch mit einer Vielzahl von Beleuchtungsoptionen ausgestattet, einschließlich i-line, g-line, Kryptonfluorid (KrF) Laser und extrem ultraviolette (EUV) Lichtquellen. Dieser Stepper ist auch in der Lage, mit einer Vielzahl von Resistmaterialien zu arbeiten, einschließlich Photoresist, Negativtonresist und Trockenfilmresist. Auch NIKON NSR 2205EX 12B bietet durch seine Off-Axis-Beleuchtungskonfiguration einen überlegenen Durchsatz. Dieser Stepper ist in der Lage, eine breite Palette von Waferdicken von 0,3 mm bis 1,0 mm zu handhaben. Darüber hinaus unterstützt es die neuesten Generationen von Resists mit seiner innovativen Heater Assist Technology. Im Hinblick auf die Datenverwaltung unterstützt NSR 2205 EX12B NIKON proprietäre CMOS400 Technology, die eine gleichzeitige Datenerfassung und Bildübertragung ermöglicht. Damit ist sichergestellt, dass alle kritischen Daten automatisch zur weiteren Analyse in die NIKON NSX Software hochgeladen werden. Alles in allem ist NIKON NSR 2205 EX 12B ein robuster Wafer-Stepper, der überlegene Lithographieleistung und -durchsatz bietet. Seine fortschrittliche Optik und nanoskalige Genauigkeit helfen Halbleiterbauelementeherstellern, Geräte mit einer extrem hohen Genauigkeit und Präzision zu produzieren. Seine umfassenden Datenverwaltungsfunktionen stellen sicher, dass alle relevanten Informationen im Zusammenhang mit dem Gerät effizient gespeichert und verfolgt werden.