Gebraucht NIKON NSR 2205 i10C #9100801 zu verkaufen

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Hersteller
NIKON
Modell
NSR 2205 i10C
ID: 9100801
Wafergröße: 8"
Steppers, 8" Reticle, 6" Applications specifications: Resolution: 0.45 µm Expose source: i-Line (365 nm) Reduction: x 5 Expose field: 21.2 x 25.2 mm, 20 x 20 mm Alignment accuracy: 0.09 µm (3 Sigma) CD Uniformity: Max-min <= 0.04 um Lens distortion: +/- 0.05 um Hardware configuration: Lens type: 5iB3S Realignment orientation: 3:00 Wafer loader type: Type 1 Wafer type: Notched Reticle microscope compatibility: 21.2 / 22.0 mm Cable length: 5.0 Meters Pellicle particle detector (Pellicle only) Variable numerical aperture: 0.50-0.57 Selected NA: 0.50 Reticle bar code reader Decnet AMS Online (OCS): NIKON SECSI / SECSII Wafer holder: Ceramic low contact type 1 FIA LIA Total overlay: Up to 20 NSR's Test reticle: R2205HA Ver.6.56 (6"-22.00 mm) Chip leveling Extended library Extended wafer carrier table Inline: Left (Nikon standard layout) Not included: Particle detector Wafer edge exposure system Multi reticle changer SHRINC 1 Performance analysis process (PAP) Self-measurement program (SMP) Low particle black ceramic wafer loader fixtures Pre alignment 2 Detector.
NIKON NSR 2205 i10C ist ein hochentwickelter und kompakter Wafer Stepper. Dieser Wafer-Stepper ist für eine effiziente und präzise Ausrichtung bei der photolithographischen Herstellung von Halbleitermikroprozessoren ausgelegt. Es verfügt über eine vollständig geschlossene optische Ausrüstung, ein drehmomentstarkes Antriebssystem und schnelle Abtastraten, die es in seiner bestimmten Aufgabe sehr effizient machen. NIKON NSR-2205I10C verfügt über eine zweidimensionale Ausrichtung zur genauen Ausrichtung. Dazu gehört ein Bildsensor, der ein Bild aus der Maske aufnimmt, eine niedrige Verzerrungsstufe in der Ebene mit hoher Auflösung zum Nivellieren und geringer Unregelmäßigkeit bei den höchsten Abtastgeschwindigkeiten und eine hohe Eingangsgenauigkeit, die eine glatte und genaue Segmentdrehung gewährleistet. Die kristalline Fokusebene bietet ein breites Sichtfeld und eine überlegene Fokustiefe, die der Lithographie-Umgebung entspricht und das fragile Muster des Wafers während des Scannens schützt. NSR 2205 i10C verwendet eine Hochdrehmoment-Antriebseinheit, um den Wafer mit hoher Geschwindigkeit und Präzision auszurichten. Dafür sorgt eine Kombination aus zwei Motortypen: Brushless Direct Coupled Motors (BDM) und Slitless Stepper Motors (SSM). Der BDM bietet eine hohe Positionsauflösung und eine reibungslose Bewegung mit geringer Vibration, während der SSM eine hohe Geschwindigkeit und eine ununterbrochene Positionskontrolle bietet. Durch die Kombination dieser beiden Motoren gewährleistet NSR-2205I10C die präzise Ausrichtung des Wafers auch bei hohen Abtastraten. NIKON NSR 2205 i10C verfügt zudem über eine Microstage- und Flying-Spot-Laserausrichtmaschine. Dies erhöht die Genauigkeit der Ausrichtung, indem die Feineinstellung der Position des Wafers ermöglicht wird. Dieses Tool ist in der Lage, alle Fehlstellungen schnell zu erkennen und zu korrigieren, wodurch ein erfolgreicher lithografischer Prozess gewährleistet ist. NIKON NSR-2205I10C wurde entwickelt, um eine sichere und kostengünstige Ausrichtung und Positionierung von Wafern in der photolithographischen Produktion zu gewährleisten. Diese Ressource wurde entwickelt, um eine Ausrichtungsgenauigkeit von bis zu 0,3 µm zu erreichen. Aufgrund ihres effizienten Designs und ihrer präzisen Ausrichtungsfunktionen ist sie in der Lage, einen erhöhten Durchsatz in komplexen Produktionsumgebungen zu unterstützen.
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