Gebraucht NIKON NSR FX-601F #9293644 zu verkaufen

Hersteller
NIKON
Modell
NSR FX-601F
ID: 9293644
Weinlese: 1998
Stepper Gen 2 (370 mm x 470 mm) Gen 3 (550 mm x 650 mm) LCD panels Resolution: ≦ 2.4 µm (Isolated pattern), ≦ 3 µm (L/S) Projection magnification: 1: 1.25 x Exposure field 120 mm square to 98.78 (H) × 138 (V) mm (≦ ø 169.71 mm) Reticle size, 6" Holds: ~(50) Reticles Overlay: ≦ 0.5 µm (EGA, |M| + 3σ) Throughput: (30) Shots, 65 sec (40 mJ/cm²) 1998 vintage.
NIKON NSR FX-601F ist ein leistungsstarker Wafer-Stepper, der eine außergewöhnlich präzise und effiziente Lösung für alle Lithographieanwendungen bietet. Dieses vielseitige Werkzeug ist in der Lage, mit einer beeindruckenden Geschwindigkeit von 0,9 Sekunden Belichtungszeit zu arbeiten und kann alle Arten von Substraten von Submikronmustern bis zu extremen Präzisionsmerkmalen unterstützen. Es ist mit einer hochentwickelten laserbasierten Projektionsoptik ausgestattet, die ein unübertroffenes hohes Maß an Fokus und Genauigkeit bietet und potenzielle Aberrationen im Zusammenhang mit herkömmlichen Steppern eliminiert. Die extrem schnelle Wiederholfrequenz des NIKON NSR FX 601 F sorgt dafür, dass die optische Leistung des Systems seine beispiellose Präzision beibehalten kann, egal wie komplex oder präzise das Muster ist. Darüber hinaus ist der Stepper entworfen, um genaue Belichtungen von Mustern mit Auflösungen so niedrig wie 20nm zu erzeugen. Die fortschrittlichen Automatisierungsfunktionen des Steppers ermöglichen eine schnelle Neukonfiguration für jede Photomaske, um die höchste Genauigkeit bei minimalem Bedienertraining und Zeitaufwand zu erzielen. NSR FX-601F bietet auch hochentwickelte Touchscreen-Funktionen, um die Bedienung zu erleichtern. Diese Einheit gibt dem Benutzer die Flexibilität, auf Maschinenfunktionen wie Belichtungsgenauigkeit und Intensität einfach zuzugreifen und sie zu modifizieren. Darüber hinaus ist der Stepper mit einer intuitiven programmierbaren Schnittstelle ausgestattet, die es ermöglicht, in verschiedene Front-End-Tools wie Belichtungsdatenerfassungssoftware zu integrieren, um die lithografische Leistung und Stabilität weiter zu verbessern. NSR FX 601 F bietet Anwendern einen außergewöhnlichen Mehrwert, der letztlich höchste Leistung und Genauigkeit ermöglicht und gleichzeitig schnelle Zykluszeiten ermöglicht. Es bietet überlegene Qualität und Zuverlässigkeit auch in den anspruchsvollsten Expositionsszenarien. Das hochentwickelte Design sorgt dafür, dass der Stepper konstant hochpräzise Ergebnisse mit höchster Konsistenz liefert. Insgesamt bietet dies Anwendern einen leistungsfähigen und zuverlässigen Wafer-Stepper, der die Anforderungen jeder Größe Lithographie-Anwendung erfüllen kann.
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