Gebraucht NIKON NSR SF120 #9207084 zu verkaufen
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ID: 9207084
Stepper, 12"
Front In-line FOUP / ACT12
(6) Reticles, 0.25"
Variable reticle microscope
Main body:
Magnification: 1/4 Reduction
i-Line light-source, 365 nm
Resolution: 0.28um
NA Variable lens: 0.50 - 0.62
Exposure: 25 mm x 33 mm
3-Axis (5) PIEZO Lens adjust
PC System hardware:
Type: DS10
UPS System
Alignment sensor:
LSA
FIA
AIS
No LIA
Interferometer system:
Wafer stage
Reticle stage
Mercury ARC lamp: 5.0 kW
Multi focus system
Table leveling system (VCM)
Wafer loader:
Type III
Wafer type: Notch
Front In-line FOUP + ACT12
Single wafer cassette
Wafer pre-align type: NC PRE2
Reticle loader:
SMIF Type (OHT)
(2) Indexes
Barcode reader
PPD3 Particle checker
Control rack:
Type: Normal (Right)
Cable length: Normal
Chamber:
S52 Sendai chamber
CVCF NEMA (1,2)
BATC / CATC / LLTC: 23.0°
PM Data:
Wafer Flatness:
Maximum: 1.270 um
L.F Maximum: 0.790 um
Lamp:
Power: 1497.932 mw/cm²
Uniformity: 2.359%
Lens distortion:
Maximum X: -0.012 - 0.013um
Maximum Y: -0.017 ~ 0.016um
Lens inclination:
Maximum: 0.060 um
Curvature: 0.023 um
AST(V-H): 0.051 um
UR-LL: 0.012 um
UL-LR: 0.021
Illumination system:
ID1(L-NA/I-NA): ConV 0.52/0.36
ID2(L-NA/I-NA): ANN 0.62/0.5
ID3(L-NA/I-NA): ConV 0.62/0.43
ID4(L-NA/I-NA): ConV 0.62/0.36
Power supply: 208 V, 3-Phase, 60 Hz
2003 vintage.
NIKON NSR SF120 ist eine hochpräzise Ausrüstung für Wafer und Masken mit NIKON proprietärer „Resonant Scanned Stepper“ (RSS) Technologie. Es ist in der Lage, hohe Durchsätze und hohe Genauigkeiten für eine Reihe von anspruchsvollen Schrittanwendungen zu erreichen. Es eignet sich sowohl für die Masken- als auch für die Waferbearbeitung. Das System verwendet eine Hochgeschwindigkeits-6-Achsen-Stufe, um eine 1-nm-Positionierauflösung zu erzielen. Die Stufe hat eine maximale Beschleunigung von 30 m/s2 und ermöglicht kürzere Taktzeiten mit weniger retuschierten Rahmen. Der Wafer-Steper ist in der Lage, eine breite Palette von Photomasken zu belichten und auszurichten. Es verfügt über eine kontaktlose Ausrichtungslichtquelle mit 9-Wellenlängen (einschließlich i-line, g-line und u-line), um hochgenaue Ausrichtungen für Wafer und Photomasken bereitzustellen. Die Einheit verfügt außerdem über einen programmierbaren Ausrichtungsalgorithmus zur weiteren Genauigkeitsverbesserung. Darüber hinaus wird die hochgenaue Ausrichtungs- und Registrierungswiederholbarkeit (1,5 Sigma) durch die Einführung des proprietären zweidimensionalen Registriermarkers gewährleistet. NIKON NSR-SF120 ist mit einer intuitiven Benutzeroberfläche und optimierten Rezept-Generierungs-Tools konzipiert, um die Rüstzeit zu reduzieren. Die NIKON proprietäre optische Achsenkorrekturfunktion wird verwendet, um die Vertikalität der optischen Achse (Auf-Achsen-Vertikalität) für eine Vielzahl von Anwendungen aufrechtzuerhalten. Der Wafer Stepper ist mit mehreren Optionen für Geschwindigkeit und Genauigkeit ausgestattet. Es verwendet eine patentierte Auto-Sensor-Maschine zur Erkennung von Reststoffen. Die Standard-Autosensoren können jedes beliebige Objekt von 0,1 Mikrometer bis 10 mm in der Dimension erkennen. Die Maschine bietet auch einen Registrierungs-Suchmodus, um den Wafer und die Maske schnell und genau zu registrieren. NSR SF 120 ist auch mit einem umfassenden Satz von Sicherheitsfunktionen ausgelegt. Es verfügt über ein In-situ-Schutzwerkzeug, um den Benutzer vor gefährlicher Substanz zu schützen. Es verfügt auch über einen absoluten Positionsmonitor, der Probleme schnell erkennen kann, wenn Änderungen am Status des Assets erkannt werden. NSR-SF120 ist ein hochpräziser Wafer-Stepper, der den hohen Anforderungen von Anwendungen auf Produktionsebene gerecht wird. Dank seiner Fähigkeit und fortschrittlichen Technologien bietet es hervorragende Ausrichtungsgenauigkeiten und Durchsätze. Es bietet eine kostengünstige Lösung für Anwendungen, die eine hochpräzise Ausrichtung und Registrierung von Wafern und Photomasken erfordern.
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