Gebraucht NIKON NSR SF120 #9290519 zu verkaufen
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ID: 9290519
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2002
i-Line stepper, 12"
Resolution: 0.18 um
Wafer loader type: Type 3, NC Pre2
Reticle size, 6"
Maximum expose field size: 25 mm x 33 mm
Reticle library: Load port (SMIF)
PPD
Bar code reader
LSA, FIA Alignment system
Front inline
Chamber type: S52
2002 vintage.
NIKON NSR SF120 Wafer Stepper ist ein hochmoderner Wafer-Stepper für die fortschrittliche Halbleiterproduktion. Es wurde entwickelt, um eine hohe Produktivität in einer Vielzahl von bildgebenden Anwendungen und Prozessen zu ermöglichen, wie fortschrittliche Lithographie, Inspektion, direkte Schreib- oder E-Beam-Lithographie. Mit fortschrittlicher NIKON-Optik und der neuesten langlebigen Projektionsbelichtungstechnologie erreicht das SF120 eine hervorragende Genauigkeit, Ausrichtung und Geschwindigkeit mit einer hohen Auflösung von bis zu 0,5 Nanometern für ultrahochpräzise Anwendungen. Die zweistufige Wafer-Plattform verwendet eine aktive Ausrichtungsausrüstung, um minimale Ausrichtungsfehler und einen extra langen Belichtungsbereich für den Langwaferbetrieb zu gewährleisten. Der hochgradig anpassungsfähige und modulare Aufbau des SF120 ist die perfekte Lösung für eine Vielzahl modernster multifunktionaler Prozesse und Anwendungen. NIKON NSR-SF120 Wafer Stepper bietet eine Vielzahl branchenführender Funktionen für eine Vielzahl von Halbleiterproduktionsumgebungen. Mit seiner 460-Millimeter-Waferspanne bietet das SF120 wiederholbare und genaue Overlay-Leistung bis zu 0,2 Mikrometer. Die Festkörper-Laserlichtquelle ist mit einem integrierten Belichtungssystem für einen stabilen und hohen Durchsatz ausgelegt. Die eingebaute automatische Matching-Einheit hält eine Maschinenwaage aufrecht, was zu einer überlegenen Ausrichtungsleistung führt. Darüber hinaus bietet der NSR SF 120 Wafer Stepper ein verbessertes Inspektionswerkzeug mit einer hohen Auflösung von bis zu 0,4 Nanometern und ist somit ideal für die Inspektion präziser Gerätefunktionen auf einem Wafer. Es verfügt auch über einen breiten Belichtungsbereich und Feldkorrekturfähigkeiten und unterstützt eine Vielzahl von Retikeln, um komplexe Multimuster und direkte Schreiblithographie zu ermöglichen. NSR-SF120 Wafer Stepper ist mit einer benutzerfreundlichen grafischen Benutzeroberfläche ausgestattet, die über einfach zu bedienende, intuitive Bedienelemente verfügt, um die Bedienung zu vereinfachen und Ausfallzeiten zu minimieren. Mit seiner flexiblen Prozessumgebung bietet das SF120 leichtere Waferlieferungen und hohe Durchsatzgeschwindigkeiten, um die Arbeitsbelastung der Betreiber zu minimieren. Die fortschrittliche Asset-Management-Lösung bietet Anwendern außerdem die Möglichkeit, Zeitpläne zu verwalten, Mustereigenschaften zu verfolgen und tatsächliche Verarbeitungsergebnisse zu überwachen. NIKON SF120 Wafer Stepper wird durch ein umfassendes Support-Netzwerk unterstützt, das eine überlegene Qualitätssicherung und langlebige Leistung bietet. Seine fortschrittliche Software-Anlage ermöglicht es Benutzern, ihre Arbeit schnell mit höchster Genauigkeit und Zuverlässigkeit abzuschließen, um eine qualitativ hochwertige Produktion, wenig bis keine Wartung und Kosteneinsparungen im Laufe der Zeit zu gewährleisten.
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