Gebraucht NIKON NSR SF200 #9220471 zu verkaufen

NIKON NSR SF200 ist eine High-End Wafer Stepper Ausrüstung, entwickelt für die Herstellung von Halbleitern, MEMS und MOEMS. Es bietet vielfältige optische Fähigkeiten und ein weites Sichtfeld und eignet sich somit ideal für komplexe Lithographieverfahren. NIKON NSR SF 200 ist mit einem scannertypischen Reduktionsprojektionsobjektiv und einem ultrahochauflösenden Ausrichtungssensor ausgestattet. Das scannertypische Reduktions-Projektionsobjektiv mit NIKON proprietärem optischem Design liefert numerische Öffnungen (NA) von 0,55 bis 0,75 und bietet hochauflösende 2580 dpi mit einem 5 μ m elektromagnetischen Feldgenerator (FEG). Dies ermöglicht eine hervorragende Bildgleichmäßigkeit und Auflösung auf Wafern, auch bei Arbeiten mit hochkomplexen Strukturen. Das System ist auch mit NIKON Double Movable Proximity Stage (DMPS) und Defect Inspection Algorithmus ausgestattet, die eine hochpräzise Ausrichtung von Wafern und Lithographiemasken ermöglichen. Die DMPS-Technologie beseitigt Heftprobleme zwischen Wafer- und Maskenstufen und bietet hochgenaue Lithographieverfahren. Zusätzlich ermöglicht der Fehlerinspektionsalgorithmus das Scannen von Wafern während der Lithographie-Produktion, die Überwachung auf Unregelmäßigkeiten und Fehler bei der Fehlerdichtigkeit. NSR SF200 verfügt über NIKON proprietäre Prozesssteuereinheit, bietet benutzerfreundliche Bedienung, erweiterte Prozessinformations-Tracking und Echtzeit-Debugging. Die Prozesssteuerungsmaschine optimiert Muster, Belichtungsparameter, Drehzeiten und Brennpunkte und sorgt so für beste Lithographieergebnisse. Darüber hinaus ist NSR SF 200 mit einem Luftkühlwerkzeug ausgestattet, das einen stabilen Betrieb und eine verbesserte thermische Gleichmäßigkeit bietet. Es bietet auch Smart Recipe Master-Software, mit der Benutzer eigene Rezepte erstellen und speichern sowie Rezepte mit anderen Benutzern teilen können. Abschließend ist NIKON NSR SF200 ein robustes, vielseitiges und benutzerfreundliches Wafer-Stepper-Asset, das den Anforderungen moderner Halbleiterherstellungsfunktionen mit einer Vielzahl von optischen und Prozesssteuerungsfunktionen gerecht wird.