Gebraucht ULTRATECH 1100 #9036435 zu verkaufen

ULTRATECH 1100 ist eine hoch fortgeschrittene Oblate Schritt-entworfen für die Halbleiteroblatensteindruckverfahrenverarbeitung. Diese Ausrüstung vereinfacht und steigert die Produktivität in vielen Branchen wie Automobil, Luft- und Raumfahrt, Medizin und Unterhaltungselektronik. Das Gerät besteht aus einer Reihe von Hauptkomponenten, einschließlich einer X-Y-Bühne, einem Scanner und verschiedenen Formen von Software und Benutzerschnittstelle zur Programmierung und Steuerung der Aktivitäten des Systems. Die X-Y-Stufe ist verantwortlich für die präzise Positionierung des Wafers auf der Bühne und die Steuerung der Geschwindigkeit und Richtung der Bühne. Darüber hinaus ist die X-Y-Stufe auch für die Kontrolle der Genauigkeit der Koordinaten und Bewegungen des Wafers während des Lithographieprozesses zuständig. Mit Hilfe einer quarzbeschichteten Bühnenplatte kann die X-Y-Stufe sicherstellen, dass die Wafer genau auf ein benutzerdefiniertes Muster mit der Genauigkeit von etwa 0,1um ausgerichtet sind. Der Scanner, auch optischer Kopf genannt, ist für die Visualisierung des auf den Wafer zu bearbeitenden Designs oder Musters verantwortlich. Dieses Verfahren erfordert eine extrem präzise Optik, wie die manuelle Fokussierlinse, die mikroskopische Genauigkeit erfordert, um sicherzustellen, dass das Design genau auf den Wafer aufgebracht und übertragen wird. Ferner bestehen die optischen Kopfkomponenten aus einer Strahlaustastvorrichtung, die dazu dient, das Aufbringen des Musters auf den Wafer in bestimmten Bereichen zu verhindern. 1100-Wafer-Stepper wird mit integrierter Software betrieben, die verwendet wird, um verschiedene Parameter wie Ausrichtungsgenauigkeit, Strahlablenkung, Fokus, Strahlbelichtungszeit, Geschwindigkeitseinstellungen usw. zu steuern und anzupassen. Für die Durchführung der Lithographieoperationen werden Anweisungen und Parameter in die Software eingegeben. Eine interaktive grafische Benutzeroberfläche wird ebenfalls bereitgestellt und verwendet, um die manuelle Steuerung des Geräts zu ermöglichen, wenn der Benutzer es benötigt. Von der manuellen Fokussierlinse bis zur Quarzbühne bietet ULTRATECH 1100 ein ausgeklügeltes und sicheres Lithographieerlebnis, das sich für die Halbleiterverarbeitung eignet. Dieses System kann hochgenaue Wafer-Photolithographie mit Präzisionen bis zu 0,1 um bieten, so dass es die ideale Wahl für Wafer-Lithographie-Prozesse.