Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #190251 zu verkaufen

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AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
Verkauft
ID: 190251
Wafergröße: 5"
TEOS CVD systems, 5", warehoused.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 reactor ist eine revolutionäre Ausrüstung, die bei der Herstellung von Halbleitern hilft. Es ist ein 20 kW Plasmasystem für Substratgrößen bis 405 mm und kann eine Reihe von hochdichten Plasmaprozessen liefern. Es verfügt über einen hohen Automatisierungsgrad mit integrierter Steuerung und Benutzeroberfläche, wodurch der Betrieb einfacher und effizienter wird. Die Einheit besteht aus vier Hauptkomponenten: der Plasmakammer, der Entladungskammer, der elektronischen Steuerung und der Stromversorgung. Die Plasmakammer besteht aus hochwertigem Aluminium mit einer unteren isolierenden Schicht, um den Wärmeübergang zu minimieren. Seine Form ist für eine gleichmäßige Plasmadichte und -verteilung ausgelegt und bietet sowohl eine erhöhte Genauigkeit als auch Wiederholbarkeit des Prozesses. Die Entladungskammer ist mit einem einseitigen Gaseinlaß ausgebildet, um den Betriebsaufwand zu reduzieren und die Gleichmäßigkeit der Wachstums-/Abscheidungsraten zu verbessern. Der fortschrittliche Stromrichter AMAT P-5000 versorgt die Spule mit voller und gleichmäßiger Leistung, liefert genaue und wiederholbare Ergebnisse und stellt sicher, dass die Substrattemperatur gut kontrolliert wird. Die Maschine verfügt außerdem über eine leistungsstarke Steuerschicht mit benutzerfreundlicher Bedienoberfläche und Steuerungslogik, mit der der Bediener Rezepte, Parameter und Prozesse schnell und genau programmieren kann. Angewandte Materialien P 5000 Reaktor bietet ausgezeichnete Leistung, Produktivität und Wiederholbarkeit in der Halbleiterverarbeitung. Die effiziente Energiezufuhr und die gleichmäßige Plasmaverteilung sorgen für konsistente Ergebnisse. Die fortschrittliche Benutzeroberfläche macht den Betrieb einfach und effizient, und die konsistenten Ergebnisse bieten sowohl Kosteneinsparungen als auch eine höhere Qualität. APPLIED MATERIALS P5000 ist eine ideale Lösung für die Halbleiterherstellung.
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