Gebraucht DAINIPPON MP-2000 #190876 zu verkaufen

DAINIPPON MP-2000 ist eine Photolackanlage, die bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen im Photolithographieverfahren eingesetzt wird. Das System erleichtert die selektive Filtration von Licht innerhalb des Photolithographie-Prozesses, wodurch die gewünschten Bereiche eines Maskierungsdesigns mit Licht belichtet und auf den Wafer übertragen werden können. Dieser Prozess wird verwendet, um eine gemusterte Oberfläche auf dem Wafer zu erzeugen, die später zum Ätzen und anderen Bearbeiten verwendet wird. MP-2000 Einheit verwendet eine Kombination aus einem hochreflektierenden Aluminiumspiegel und negativem oder positivem Photoresist, um Licht aus dem Wafer mit einer gleichbleibenden Wellenlänge im gesamten Gebiet zu reflektieren. Dadurch können die gewählten Bereiche des Wafers Reflexion erfahren, während der Rest der Oberfläche ungeschützt bleibt. Das Maskierungsdesign wird auf das Fotolackmaterial aufgedruckt und dann den Lichteinfallsfeldern ausgesetzt. Die gestalteten Bereiche werden Licht ausgesetzt und ausgehärtet, während die Bereiche außerhalb der Maske vor Licht geschützt sind. Dieser Vorgang wiederholt sich über den gesamten Wafer mit allen notwendigen Maskierungskonstruktionen. Der Aluminiumspiegel in der DAINIPPON MP-2000 Maschine ist hochreflektierend und langlebig. Es ist ein hochohmiges Material, das in der Lage ist, eine schnelle Beleuchtung innerhalb des Prozesses. Dadurch wird auch der Energieverbrauch reduziert, wodurch die zum Betrieb des Werkzeugs erforderliche Leistung reduziert wird. Der Spiegel hilft auch bei der Bereitstellung einer konsistent geregelten Umgebung innerhalb des Photoresist-Assets. MP-2000 Modell verwendet auch einen negativen oder positiven Photolack, um die gewünschten Bereiche mit dem Licht zu belichten, während der Rest des Wafers geschützt ist. Der Photolack ist ein flüssiges Material, das mit einem geeigneten Medium (wie einem aufgesponnenen Film oder Polymer) kombiniert werden kann, das eine Maske ähnlich einem geätzten Muster bildet. Bei Belichtung zerfallen die Moleküle innerhalb des Photolacks, so dass das Design der Maske übertragen werden kann. Photoresistsysteme sind ein wesentlicher Bestandteil der Photolithographie und DAINIPPON MP-2000 bietet eine sehr langlebige und zuverlässige Ausrüstung für selektive Lichtfiltration für den Wafer. Sein reflektierender Aluminiumspiegel ist sehr effizient bei der schnellen Beleuchtung und der negative oder positive Photoresist ermöglicht den Schutz der gewünschten Bereiche vor den Lichteinfallsfeldern, wodurch die perfekte Photolithographie-Umgebung geschaffen wird.