Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9247370 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7
ID: 9247370
Weinlese: 1995
Track systems 1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 7 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für die Entwicklung von fotogeätzten elektronischen Teilen verwendet wird. Dieses System nutzt eine hochentwickelte Deep Ultraviolet (DUV) Lithographie-Technologie, um hohe Seitenverhältnisse, hochauflösende Funktionen auf kleinen Geräten und Substraten zu erzeugen. TEL MARK7 unit hat sich als zuverlässiges und kostengünstiges Werkzeug für die Entwicklung von elektronischen Teilen erwiesen, die ein hohes Maß an Genauigkeit und Präzision erfordern. Mit der Maschine wird für den Photoätzprozess ein Photolack oder eine Resistbeschichtung einer Strahlung der richtigen Wellenlänge ausgesetzt. Die Strahlung kann entweder von einer in das Werkzeug eingebauten Quelle oder von einer externen Lichtquelle, wie einem Laser, bereitgestellt werden. Der Photolack durchläuft dann eine chemische Reaktion und härtet in den dem Licht ausgesetzten Bereichen aus. Nach der Entwicklung dient der gehärtete Photolack als Schutzschicht über dem Substrat, wodurch ein Ätzen in unerwünschten Bereichen verhindert wird. TOKYO ELECTRON MARK-7 Asset umfasst einen 8-Zoll-Abtastkopf mit einer Schärfentiefe von bis zu 4 Mikrometern. Es ist in der Lage, Auflösungen bis zu 1 Mikron zu produzieren und bietet eine Vielzahl von Belichtungsparametern, um die gemusterten Merkmale zu steuern. Für mehr Genauigkeit und Durchsatz bietet das Modell die Möglichkeit, simultane Belichtungs- und Entwicklungsprozesse durchzuführen. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine erweiterte Vorinspektionsfunktion, die die Prüfung von Fotolack ermöglicht, bevor es dem erforderlichen Licht ausgesetzt wird. Dadurch kann der Anwender mögliche Fehler frühzeitig erkennen und das Fehlerrisiko reduzieren. TEL/TOKYO ELECTRON MARK-7 System wurde entwickelt, um die Produktionszeit zu erhöhen und die Gesamtkosten zu reduzieren. Darüber hinaus ist das Gerät kompatibel mit vielen Substraten und Materialien, so dass es ideal für eine breite Palette von Anwendungen. Die Benutzeroberfläche der Maschine ist einfach zu bedienen und bietet umfassende Unterstützung und Unterstützung während des gesamten Photoresist-Entwicklungsprozesses.
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