Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9250083 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7
ID: 9250083
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1993
Coater / (2) Developer system, 6" 1993 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 7 ist eine hochentwickelte und vielseitige Photolithographie-Ausrüstung, die häufig in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Es ist in der Lage, komplizierte Schichten aus Metall, Polymeren und/oder kristallinen Materialien herzustellen, um elektronische Bauelemente und andere komplexe Mikrobauelemente zu bauen. Das System besteht aus einer Reihe von Komponenten, die in einer großen Umweltkammer enthalten sind, die in einer Reinraumeinrichtung untergebracht ist. Das Verfahren beginnt mit einer dünnen Schicht aus Photolackmaterial, die auf das Gerätesubstrat aufgebracht wird. Das Substrat wird dann extremen ultravioletten (EUV) Lichtimpulsen ausgesetzt, die eine Reaktion innerhalb des Photolacks auslösen. Während sie belichtet wird, bilden sich chemische Bindungen zwischen den Molekülen und bilden Formen, die für die Muster im EUV-Strahl einzigartig sind. Durch diese chemische Reaktion härtet der Photolack aus und stellt eine Maske für den nächsten Verfahrensschritt bereit. Der härtende Photoresist wird dann einem chemischen Ätzelement ausgesetzt, das einen der belichteten Teile des Substrats entfernt. Die Ätzchemikalien sind entweder gasförmig oder flüssig und werden auf dem Substrat abgeschieden. Der Ätzvorgang wird über das gesamte Substrat wiederholt, bis die gewünschten Formen in das Material eingeätzt sind. Diese chemische Ätzung ist hochpräzise und kann mit hoher Genauigkeit überwacht und reguliert werden. Die Ätzprozesse ermöglichen insbesondere die Bildung komplexer und exakter Schaltungsleitungen, die für komplizierte Mikrogeräte unerlässlich sind. Anschließend wird der verbleibende Photolack mit einem Plasmaascher entfernt, so daß eine weitere Materialabscheidung aufgebracht werden kann. Die in dieser Stufe verwendeten Materialien sind in der Regel Polymere, die dank ihrer fortschrittlichen Prozesskontrolle mit großer Präzision aufgebracht werden können. Die Einheit ermöglicht auch die Optimierung der Materialauswahl, so dass die elektronischen Eigenschaften der Materialien, wie Leitfähigkeit, optimiert werden können. Der letzte Schritt des TEL MARK7 Verfahrens ist die Abscheidung einer Metallschicht, wie Aluminium oder Kupfer. Der Metallabscheidungsprozess ähnelt dem Polymerabscheidungsprozess, sondern beinhaltet den Einsatz eines speziellen Vakuumwerkzeugs, einer sogenannten Sputterabscheidungsmaschine. Dieses Werkzeug wurde entwickelt, um ein effizientes Vakuumverfahren für die Metallabscheidung auf dem Substrat bereitzustellen. Insbesondere kann das Sputter-Abscheidungswerkzeug stark angepasst und gesteuert werden, wodurch komplexe Metallkontakte entwickelt werden können, die für Leiterbahnen verwendet werden. Im Gegensatz zu den anderen Verfahren ist TOKYO ELECTRON MARK-7 in der Lage, mehrere Schichten aus Metall zu verarbeiten, was die Bildung tieferer Verbindungen oder den Aufbau mehrschichtiger Strukturen ermöglicht. MARK7 ist eine hervorragende Bereicherung für die Herstellung von komplizierten Elektronik- und Mikrogeräten. Es kombiniert mehrere Techniken, wie Photolithographie, Polymerabscheidung und Metallabscheidung, in einem nahtlosen Prozess. Diese enge Kontrolle des gesamten Prozesses stellt sicher, dass die Systemleistung von sehr hoher Qualität ist, was den Aufbau komplexer Geräte mit exakten Abmessungen ermöglicht.
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