Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9399016 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7
ID: 9399016
Wafergröße: 8"
Coater / Developer system, 8".
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 7 ist eine Photolackverarbeitungsanlage zur Herstellung von Halbleiterbauelementen. Es ist ein kompaktes und hochautomatisiertes Werkzeug, das verwendet wird, um hochgenaue und hochvolumige Photolackmuster zu erzeugen. Das Verfahren beginnt mit dem Aufbringen von Photolack auf das Substrat. Dies geschieht durch eine horizontale Spin-on-Beschichtung, die eine gleichmäßige Abdeckung des Photolacks auf der Waferoberfläche ermöglicht. Der aufgebrachte Photoresist wird dann von einer Heizplatte gebacken, um ihn sicher auf dem Substrat zu fixieren. Das Photolacksystem beleuchtet dann das Substrat mit einer Photomaske, die das gewünschte Muster enthält. Ein spezieller Beleuchtungsmechanismus sorgt für eine optimale Bestrahlung der Maske und verschlankt den Prozess. Ein integrierter VUV-Beleuchter, der auf maximale Stabilität und optimale Bildgenauigkeit ausgelegt ist, stellt einen wesentlichen Bestandteil des Geräts dar. Nach Belichten des Substrats wäscht die Maschine unerwünschten Photolack mit einem speziellen Lösungsmittel ab. Dies geschieht üblicherweise mit einem verdampften Kohlenwasserstoffbad, einem als RIE (reactive ion etching) bezeichneten Verfahren. Anschließend wird das belichtete und gewaschene Substrat entwickelt. Jeder verbleibende Photolack wird mit proprietären Entwicklungsflüssigkeiten entfernt. Das Werkzeug wird kalibriert, um eine gleichmäßige Entwicklung des Wafers zu gewährleisten und die Rückstandsbildung zu eliminieren. Sobald der Wafer entwickelt ist, wird er auf das Trocknungsmodul übertragen. Dieses Modul verwendet einen aktiven Trocknungsprozess, der eine gleichmäßige und konsistente Verteilung des Fotolackes auf der Oberfläche ermöglicht. Die Trocknungsstufe ist notwendig, um das Muster zu erhalten und hohe Ausbeuten zu erzielen. TEL MARK7 Photoresist Processing Asset ist ein großartiges Werkzeug für hohe Genauigkeit und hohe Ausbeute nanometrische Photoresist Muster zu schaffen. Es ist zuverlässig und kostengünstig, und der Einsatz modernster Technologie macht es zum Standardwerkzeug vieler Halbleiterunternehmen.
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