Gebraucht VARIOUS Photolithography, Evaporation, and Encapsulation Line #293812064 zu verkaufen

VARIOUS Photolithography, Evaporation, and Encapsulation Line
ID: 293812064
Qty / Make / Model / Description (1) / DNK / MA-5501ML / Exposure system (2) / DNS / SF-600G / Spin coaters (1) / DNS / TS-400G / Cleaner (1) / ELVESS / 592 / Evaporation system, vacuum deposition (1) / MBRAUN / MB 200 / Inert gas purifier (1) / MBRAUN / MB 300 / Inert gas purifier (1) / LANTECH / LLE400-2P1P / Encapsulation system (1) / LANTECH / LLE400-OVN / CAP Oven (1) / LANTECH / LLE400-GCC / Deposition system (1) / MBRAUN / - / Docking, N₂ handling system.
Verschiedene Geräte zur Photolithographie, Verdampfung und Kapselung spielen in der Halbleiter- und Mikroelektronikindustrie eine entscheidende Rolle und ermöglichen die Herstellung integrierter Schaltungen, Sensoren und anderer elektronischer Komponenten. Diese anspruchsvollen Maschinen werden in Reinraumumgebungen eingesetzt, um dünne Filme, Musterschaltungen und empfindliche elektronische Strukturen abzulegen. Lassen Sie uns die wichtigsten Details der Ausrüstung in dieser Zeile erforschen. 1. Fotolithographieausrüstung: - Qty: 3 Einheiten - machen/Modellieren: Canon FPA-5550iZ2 I-Linie Schritt-Beschreibung: Die Schritt-Canon FPA-5550iZ2 I-Linie ist eine für das Submikronbeschlussmustern entworfene Hochleistungsfotolithographieausrüstung. Es nutzt eine i-line Wellenlänge von 365 nm, um Photomasken mit außergewöhnlicher Präzision auf photoresistbeschichtete Substrate zu übertragen. Dieser Stepper verfügt über erweiterte Ausrichtungs- und Belichtungssteuerungsmechanismen, so dass er für Front-End-Halbleiterherstellungsprozesse geeignet ist. 2. Verdampfungsausrüstung: - Menge: 2 Einheiten - Hersteller/Modell: AJA International ATC Orion 8 UHV - Beschreibung: Das AJA International ATC Orion 8 UHV ist ein vielseitiges Verdampfungssystem für die Dünnschichtabscheidung in Vakuumumgebungen. Dieses Gerät ist mit bis zu 8 Magnetron-Sputterquellen ausgestattet, die gleichzeitig die Abscheidung mehrerer Materialien ermöglichen. Das UHV-Design sorgt für hochwertiges Filmwachstum durch präzise Steuerung von Abscheidungsparametern wie Substrattemperatur, Druck und Abscheiderate. 3. Verkapselungsausrüstung: - Menge: 1 Einheit - Marke/Modell: Nordson ASYMTEK Forte SL - Beschreibung: Die Nordson ASYMTEK Forte SL ist eine hochmoderne Verkapselungsmaschine für Dosier- und Beschichtungsanwendungen in der Mikroelektronik. Dieses Tool bietet präzise Flüssigkeitsabgabefunktionen mit Strahl-, Nadelabgabe- und Folienbeschichtungstechnologien. Der Forte SL ist mit fortschrittlicher Software zur Prozesssteuerung und -überwachung ausgestattet, die eine zuverlässige Kapselung empfindlicher elektronischer Komponenten ermöglicht. Diese Gerätekomponenten bilden gemeinsam eine umfassende Photolithographie-, Verdampfungs- und Verkapselungslinie, die die Herstellung und den Schutz komplizierter elektronischer Geräte ermöglicht. Die photolithographische Vorrichtung ist wesentlich für die Definition komplexer Muster auf Halbleitersubstraten, während die Verdampfungsvorrichtung die Abscheidung von dünnen Schichten mit kontrollierter Dicke und Zusammensetzung erleichtert. Schließlich gewährleistet die Kapselungsausrüstung den zuverlässigen Schutz elektronischer Bauteile vor Umwelteinflüssen und mechanischen Beschädigungen. Abschließend stellen die oben erwähnten Photolithographie-, Verdampfungs- und Verkapselungsleitungsanlagen modernste Technologien dar, die in der Halbleiter- und Mikroelektronikindustrie eingesetzt werden. Diese Werkzeuge sind entscheidend für die Erzielung einer hochauflösenden Strukturierung, einer präzisen Dünnschichtabscheidung und einer zuverlässigen Verkapselung elektronischer Bauelemente und tragen letztlich zur Herstellung fortschrittlicher integrierter Schaltkreise und elektronischer Bauelemente bei.
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