Gebraucht LAM RESEARCH 2080 TCU #9252338 zu verkaufen

LAM RESEARCH 2080 TCU ist ein Kühler-rezirkulierender Wärmetauscher, der entwickelt wurde, um eine zuverlässige und effiziente Wärmeübertragung von Flüssigkeiten zu gewährleisten, die in der Halbleiterscheibenverarbeitung verwendet werden. Es bietet volle Wärmeableitung Fähigkeit, so dass es die perfekte Wahl für Anwendungen wie Lithographie, Abscheidung, Ätz- und CMP-Prozesse. Diese Einheit zeigt ein einzigartiges zweistufiges, Gegenflussdesign des Kondensators/Evaporators, aus einem Edelstahlhitzeex-Wechsler des Rohrs in der Schale mit einem geschlossenen Kühlstromkreis bestehend. Durch die Gegenstromkonfiguration kann der Verdampfer vor dem Kondensator platziert werden, um einen höheren Wirkungsgrad zu erreichen. Der hohe Wandwärmeübertragungskoeffizient reduziert auch den gesamten Wärmebelastungsbedarf und ermöglicht niedrigere Betriebstemperaturen. 2080 TCU verwendet auch zwei Nichteisenmotoren, um den Wärmeübergang zwischen dem Kühler und der Waferbearbeitungsflüssigkeit zu optimieren. Diese Kombination sorgt für eine präzise und konsistente Temperaturregelung. Die Motoren sind mit zwei Pumpen und einem Edelstahlventuri kombiniert, um den erforderlichen Differenzdruck zu erzeugen. Ein einstellbarer Durchflussregler ist auch enthalten, um den Durchfluss der Kühlgeräte zu regulieren, um die spezifischen Anforderungen der Anwendung zu erfüllen. LAM RESEARCH 2080 TCU ist so konzipiert, benutzerfreundlich zu sein, mit einem Standard 5,7-Zoll-Touch-Panel, um einen einfachen Zugang zu Steuerparametern zu ermöglichen. Dieses Panel zeigt auch Feedback zum Betrieb des Systems an, einschließlich Temperatur-, Druck- und Durchflussinformationen. Es umfasst auch die Kommunikation mit anderen Steuerungssystemen, wodurch die Integration in alle bestehenden Prozesse einfach ist. Dieser Wärmetauscher ist für den Einsatz mit sauberen, verunreinigungsarmen Chemikalien konzipiert, um sicherzustellen, dass die Wafer während der gesamten Verarbeitung sauber bleiben. Es verfügt auch über eine wartungsarme Konstruktion, die eine minimale Reinigung und Wartung erfordert, wenn Sie mit Spitzeneffizienz arbeiten. Insgesamt ist 2080 TCU eine ideale Lösung für Halbleiterprozessanwendungen, die eine präzise und konsistente thermische Steuerung erfordern. Das effiziente Design, die benutzerfreundliche Oberfläche und der saubere Betrieb machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für Waferhersteller, die ihre Prozesseffizienz verbessern möchten.