Gebraucht ASM A600 UHV-CP #9249519 zu verkaufen

ASM A600 UHV-CP ist eine hochwertige, zuverlässige Diffusionsofenanlage, die für vielfältige Anwendungen in der Halbleiterherstellung entwickelt wurde. Das System verwendet ein PECVD-Verfahren zur In-situ-Oxidation und Nitridierung von Wafern und anderen Substraten. Das Gerät verfügt über eine Hochvakuum-Prozesskammer mit zwei elektrostatischen Multi-Pocket-Effusionszellen, einer Hochstrom-Plasmaquelle und einem automatisierten, vollständig konfigurierbaren Hardware/Softwarepaket zur Prozesssteuerung. Die Maschine wurde speziell für die Gleichmäßigkeit und Reproduzierbarkeit der thermischen Oxidation und Nitridierung von Wafern entwickelt. Das Werkzeug ist in der Lage, ein breites Spektrum von hochwertigen Folien zu produzieren und ausgezeichnete Schrittabdeckung haben, was zu wiederholbaren, genauen und kontrollierten Produkten führt. Die Anlage verfügt zudem über ein hochwertiges Heizmodell, eine ultrahoche Vakuumkonfiguration 10-8Torr Basisdruckes, ein breites Spektrum an Prozessdruckbereichen von 10E-7 bis 10E-3Torr. Die hohe Qualität der Ausrüstung ermöglicht die präzise Kontrolle von Waferoxidations- und Nitridierungseigenschaften wie Waferoberflächentemperatur, Konzentration und Stabilität, Prozesszeit und Gleichmäßigkeit. Das System ist mit einer Mehrtaschen-Dual-elektrostatischen Ergusionszelle, einem automatisierten Prozessregler, einem Temperaturprozessregler, einer Hochstrom-Plasmaquelle und anderem Zubehör, wie einer Kryo-Fingerspitze, einer Klemme und einem Gaspanel ausgestattet, um verschiedene Prozessexperimente durchführen zu können. Die Anlage enthält einen Hochgeschwindigkeits-Abgasventilator zur schnellen Evakuierung von gasförmigen und partikelförmigen Abfällen, die während der Verarbeitung anfallen. Die Maschine enthält auch eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen, um die Sicherheit des Werkzeugs während des Betriebs zu gewährleisten, wie einen Trennschalter (in Serie geschlitzt) zum Schutz vor Spannungsschwankungen. Die Anlage soll auch die Flexibilität bei der Verwendung erleichtern, da sie für eine Vielzahl von Prozessanforderungen wie thermische Oxidation, Nitridierung und Silizidierungsprozesse eingesetzt werden kann. Das Modell kann eine breite Palette von Wafergrößen (5-12 Zoll) für eine effiziente und gleichmäßige thermische Oxidation und Nitridierung von Siliziumwafern und anderen Substraten aufnehmen. A600 UHV-CP-Geräte eignen sich bestens für eine Vielzahl von Prozessanwendungen wie Halbleiter-Waferoxidation, Nitridierung, Silizidierung und andere hochwertige elektronische und optoelektronische Bauteilfertigung. Dieses hochwertige System mit seiner außergewöhnlichen Zuverlässigkeit und Kompatibilität ist ein fester Favorit bei professionellen Anwendern.