Gebraucht ASYST / PST Melitas F30VD #9246528 zu verkaufen

ASYST / PST Melitas F30VD
ID: 9246528
Furnaces.
ASYST/PST Melitas F30VD ist ein Diffusionsofen und Zubehör für Hochleistungsdoping von Siliziumscheiben. Es ist für Anwendungen konzipiert, bei denen Diffusionsprozesse mit niedriger Temperatur/hoher Präzision erforderlich sind, wie die Herstellung von Leuchtdioden (LEDs), lichtabsorbierenden Dioden (LADs), Solarzellen und anderer Hochleistungselektronik. Das fossilfreie Autoladesystem ermöglicht eine häufige Dotierung von Siliziumscheiben bis 14 Zoll Durchmesser mit einer Ungleichmäßigkeit von weniger als 2%. Ein wiederholbarer Heizprozess mit vertikaler Heißwand und natürlicher Konvektion sorgt für eine ausgezeichnete Temperaturgleichförmigkeit über den Waferdurchmesser. Dieser Diffusionsofen ist in der Lage, die Temperatur über einen weiten Bereich mit unabhängiger Steuerung der Prozesstemperaturen bis 1250 ° C in einem vertikalen Ofen zu steuern. Es verfügt auch über Vakuum-Ofen-Zyklusfähigkeiten und Hochdruckgassteuerung für gleichmäßige und lokalisierte hohe Dotierung von Siliziumwafern. Die Gasströmungskonfiguration kann je nach Anwendungsfall für eine Vielzahl von Dotierungstechniken ausgelegt sein. Vorteile von PST Melitas F30VD Diffusionsofen sind reduzierte Zykluszeiten von bis zu 40%, Verbesserungen der Selektivität und lateralen Gleichmäßigkeit sowie präzise Dotierungsstufen bei Vergrößerung der Dotierstoffverteilungen. Darüber hinaus minimieren die computergesteuerte Gaszufuhr und patentierte Warmwandsteuerungen jegliche Auswirkungen von Oberflächenverunreinigungen auf den Diffusionsprozess. Der integrierte Manipulator und die abnehmbare Waferkassette sorgen für einen sicheren und einfachen Transfer von Siliziumscheiben bei minimaler Handhabung und reduzierter Verschmutzung. ASYST Melitas F30VD Diffusionsofen bietet zuverlässige, konsistente Ergebnisse durch sein flexibles Design und die Fähigkeit, sich mit Prozess- und Steuerungssystemen zu verbinden. Mit einem erweiterten Feature-Set, wie dem automatischen Dopant-Sendesystem, integriertem Prozessfluss-Debugging und einstellbarer Kristallprofil-Abstimmung, ist dieser Diffusionsofen ideal für die Serienproduktion von Hochleistungselektronik.
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