Gebraucht BENEQ TFS 200 #293683751 zu verkaufen

ID: 293683751
Wafergröße: 8"
Atomic Layer Deposition (ALD) system, 8" (2) Heated source bottles (4) Ambient temperature source bottles Gases: O3, H2O, H2O2 Ozone generator ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER Dry pump Pumping speed: 100 m³/hr No load lock.
BENEQ TFS 200 ist ein hochmoderner Diffusionsofen, der für präzise und einheitliche Dünnschichtbeschichtungs- und Thermoverarbeitungsanwendungen in der Halbleiter-, Optik- und Photovoltaikindustrie entwickelt wurde. Diese Hochleistungsausrüstung verfügt über fortschrittliche Funktionen und innovative Technologie, um überlegene Ergebnisse zu liefern und die hohen Anforderungen moderner Fertigungsprozesse zu erfüllen. TFS 200 ist mit einem robusten und zuverlässigen Heizsystem ausgestattet, das eine gleichmäßige Temperaturverteilung über die Prozesskammer gewährleistet und eine ideale Umgebung für die Abscheidung und Diffusion von dünnen Filmen schafft. Der Ofen kann Betriebstemperaturen von bis zu 1200 Grad Celsius erreichen und bietet reichlich thermische Energie für eine Vielzahl von Materialbearbeitungsanwendungen. Eines der wichtigsten Highlights von BENEQ TFS 200 ist seine präzise Steuereinheit, die es Anwendern ermöglicht, verschiedene Parameter wie Temperatur, Druck und Gasdurchfluss mit hoher Genauigkeit und Reproduzierbarkeit einzustellen. Dieses Kontrollniveau ermöglicht es Forschern und Ingenieuren, den Abscheidungsprozess feinabzustimmen und sehr gleichmäßige Dünnschichtbeschichtungen mit präziser Dicke und Zusammensetzung zu erzielen. Der Diffusionsofen ist mit mehreren Gaseintrittsöffnungen ausgestattet, so dass eine Vielzahl von Vorläufergasen und Dotierstoffen eingeführt werden können, um die Eigenschaften der abgeschiedenen dünnen Filme anzupassen. Die Maschine verfügt auch über ein fortschrittliches Gasmisch- und -lieferwerkzeug, das präzise und konsistente Gasdurchflussraten gewährleistet und eine hervorragende Folienqualität und Reproduzierbarkeit fördert. Um eine einfache Bedienung und Überwachung des Abscheidungsprozesses zu erleichtern, ist TFS 200 mit einer benutzerfreundlichen Oberfläche ausgestattet, die Echtzeit-Feedback zu wichtigen Prozessparametern und dem Asset-Status bietet. Darüber hinaus kann das Modell problemlos in externe Überwachungs- und Steuerungssysteme zur nahtlosen Automatisierung und Datenerfassung integriert werden. BENEQ TFS 200 ist mit Blick auf Sicherheit und Zuverlässigkeit konzipiert, mit robuster Konstruktion und fortschrittlichen Sicherheitsverriegelungen, um Ausrüstungsfehler zu verhindern und den Bedienerschutz zu gewährleisten. Das Gerät umfasst auch erweiterte Diagnose- und Überwachungstools, um proaktive Wartung und Fehlerbehebung zu ermöglichen, Ausfallzeiten zu minimieren und die Produktivität zu maximieren. Neben dem Basisdiffusionsofen bietet BENEQ eine Reihe von Zubehör und optionalen Funktionen, um die Fähigkeiten und Flexibilität des TFS 200-Systems zu verbessern. Dazu gehören zusätzliche Gashandlingmodule, Substrathalter und kundenspezifische Abscheidekammern, um spezifischen Prozessanforderungen und experimentellen Setups gerecht zu werden. Insgesamt ist der Diffusionsofen BENEQ TFS 200 ein vielseitiges und zuverlässiges Werkzeug für Dünnschichtabscheidungs- und Thermoverarbeitungsanwendungen, das leistungsstarke Funktionen, präzise Steuerung und fortschrittliche Funktionen bietet, um den anspruchsvollen Anforderungen moderner Industrie und Forschung gerecht zu werden. Mit seiner überlegenen Leistung und Flexibilität ist TFS 200 ein wesentliches Werkzeug für Forscher und Ingenieure in den Bereichen Halbleiter, Optik und Photovoltaik.
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