Gebraucht CENTROTHERM c.PLASMA AlOx #9409520 zu verkaufen

CENTROTHERM c.PLASMA AlOx ist ein Diffusionsofen und Zubehör, das entwickelt wurde, um den steigenden Anforderungen von Verbundhalbleiterherstellungsprozessen gerecht zu werden. Es ist ein Hochleistungswerkzeug zur Abscheidung von Aluminiumoxynitrid (AlOxN) -Schichten und anderen Verbundhalbleitermaterialien mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und Reproduzierbarkeit. Die Plasmaquellentechnologie sorgt für einen homogenen Ionenfluss über die gesamte Probe. CENTROTHERM c.PLASMA AlOx bietet eine vollautomatische Prozesssteuerung einschließlich der automatischen Einstellung von Dampfdruck und Flussmittel, die präzise, wiederholbare Ergebnisse ermöglicht. Die integrierte HF-Quelle ist in der Lage, Plasma mit niederohmigem, homogenem Profil zu produzieren. Die extrem niederdruckreiche Stickstoffumgebung sorgt dafür, dass alle abgeschiedenen Schichten sauber bleiben. CENTROTHERM c.PLASMA AlOx bietet eine präzise Temperaturregelung mit einem Bereich von 100 ° C bis 1.000 ° C und kann für eine Vielzahl von Prozessen wie kinetische Dampfabscheidung (KVD), schnelle thermische Prozesse (RTP) und schnelles thermisches Glühen (RTA) verwendet werden. Es verfügt auch über eine fortschrittliche Vakuumausrüstung, mit Getter, Turbo- und Rotationspumpen und Manometer, entworfen, um die Kammer schnell und zuverlässig zu evakuieren. Das gesamte CENTROTHERM c.PLASMA AlOx-System besteht aus einer Reaktionskammer, einer Plasmaquelle, einem HF-Generator, einem unabhängigen Thermoelement PT 100, einer Vakuumeinheit und einer optionalen Gaszufuhr. Die Reaktionskammer ist speziell für den Anbau von Verbundhalbleitermaterialien konzipiert und aus AISI-Edelstahl für Korrosionsbeständigkeit aufgebaut. Belüftung und Kühlung erfolgen über einen Hochdrucklüfter, endotherme und exotherme Heizungen und Wärmeaustauschkreislauf. Die Basismaschine umfasst auch ein integriertes Widerstandsheizelement, mit dem Proben gleichmäßig und gleichmäßig beheizt werden können. Verschiedene Waferhalter können in Verbindung mit der Reaktivierungskammer zur Unterstützung verschiedener Probengeometrien eingesetzt werden. CENTROTHERM c.PLASMA AlOx kann über eine benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche ferngesteuert werden, wodurch alle notwendigen Prozessschritte durchgeführt werden können. Es kann auch in die meisten Halbleiterfertigungslinien integriert und an Überwachungssysteme angeschlossen werden. Insgesamt ist CENTROTHERM c.PLASMA AlOx ein leistungsfähiges und zuverlässiges Werkzeug für eine enge Prozesssteuerung bei der Herstellung von Verbundhalbleitern. Mit seiner integrierten HF-Quelle, einer präzisen Temperaturregelung und anderen fortschrittlichen Funktionen bietet es eine ideale Lösung für die Herstellung hochwertiger und reproduzierbarer Metalloxynitrid-Schichten.