Gebraucht CENTROTHERM E2000 HT 320-4 #293774189 zu verkaufen
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ID: 293774189
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2007
PECVD Systems, 6"
Furnace tubes:
ALOx and PEALD
A-Si PECVD
LPCVD
Thermal and wet oxidation
PECVD Gases: SiH4, NH3, N2, H2, N2O, TMA, O2, PH3/B2H6, Doping gas
A-Si Gases: N2, Ar, SiH4, PH3/B2H6, N2O, O2
LPCVD Gases: N2, SiH4, PH3, B2H6
2007 vintage.
CENTROTHERM E2000 HT 320-4 ist ein Hochtemperatur-Diffusionsofen zur präzisen Steuerung der thermischen Verarbeitung in der Halbleiterherstellung und anderen Industrien, die anspruchsvolle Wärmebehandlungsprozesse erfordern. Dieses fortschrittliche Ofenmodell bietet eine breite Palette von Eigenschaften und Fähigkeiten, um den anspruchsvollen Anforderungen moderner High-Tech-Anwendungen gerecht zu werden. Kern des E2000 HT 320-4 ist seine Hochtemperaturfähigkeit mit einer maximalen Betriebstemperatur von 1300 ° C. Dies ermöglicht die präzise Glühung, Oxidation und Diffusion verschiedener Materialien und gewährleistet eine optimale Leistung und Zuverlässigkeit von Halbleiterbauelementen und anderen elektronischen Bauelementen. Der Ofen ist mit einer robusten Heizeinrichtung ausgestattet, die eine schnelle Erwärmung und ausgezeichnete Temperaturgleichförmigkeit über die Prozesskammer liefert, die Temperaturgradienten minimiert und konsistente Ergebnisse gewährleistet. CENTROTHERM E2000 HT 320-4 verfügt über eine vertikale Ofenkonfiguration, die ein effizientes Wafer-Handling und einen gleichmäßigen Gasfluss in der gesamten Prozesskammer ermöglicht. Diese Konstruktion ermöglicht die Verarbeitung von Wafern mit hohem Durchsatz bis zu einem Durchmesser von 300 mm und eignet sich somit für Produktionsoperationen, die große Losgrößen erfordern. Der Ofen ist auch mit fortschrittlichen Gasförder- und Steuerungssystemen ausgestattet, die ein präzises Management von Prozessgasen für optimierte Prozessergebnisse gewährleisten. Einer der Hauptvorteile der E2000 HT 320-4 ist die fortschrittliche Prozesssteuerung. Der Ofen ist mit einem hochmodernen Steuerungssystem ausgestattet, das die Programmierung komplexer thermischer Rezepte mit präzisen Temperaturrampen-, Tränk- und Kühlprofilen ermöglicht. Diese Steuerung ermöglicht es Anwendern, die thermischen Verarbeitungsbedingungen an spezifische Anforderungen anzupassen, was zu einer verbesserten Geräteleistung und -ausbeute führt. Neben den fortschrittlichen Prozesssteuerungsfunktionen ist CENTROTHERM E2000 HT 320-4 auch mit einer Reihe von Sicherheits- und Wartungsfunktionen ausgestattet, um einen zuverlässigen und störungsfreien Betrieb zu gewährleisten. Der Ofen ist mit mehreren Sicherheitsverriegelungen, Übertemperaturschutz und Notabschaltsystemen ausgelegt, um Risiken zu mindern und thermische Auslaufereignisse zu verhindern. Das Gerät umfasst auch integrierte Diagnose- und Berichtsfunktionen zur einfachen Überwachung der Maschinenleistung und Fehlerbehebung bei eventuell auftretenden Problemen. Um E2000 Diffusionsofen HT 320-4 zu ergänzen, stehen eine Reihe von Zubehör und Optionen zur Verfügung, um seine Fähigkeiten weiter zu verbessern. Dazu gehören Wafer-Handling-Systeme, Gasreinigungseinheiten, fortschrittliche Prozessüberwachungstools und Softwareintegration für nahtlose Steuerung und Datenverwaltung. Die Flexibilität und Skalierbarkeit von CENTROTHERM E2000 HT 320-4 machen es zu einer vielseitigen Lösung für eine breite Palette von Anwendungen in der thermischen Verarbeitung, von der Forschung und Entwicklung bis zur Serienproduktion. Insgesamt ist E2000 Diffusionsofen HT 320-4 eine hochmoderne Lösung für anspruchsvolle Wärmebehandlungsprozesse in der Halbleiterindustrie und darüber hinaus. Mit seiner hohen Temperaturfähigkeit, fortschrittlichen Prozesssteuerungsfunktionen und robustem Design bietet dieser Ofen überlegene Leistung, Zuverlässigkeit und Flexibilität, um präzise und wiederholbare thermische Verarbeitungsergebnisse zu erzielen.
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